专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
碳化硅晶片抛光清洗用的螯合性表面活性剂及其应用方法 CN202211196433.X - 本发明公开的碳化硅晶片抛光清洗用的螯合性表面活性剂及其应用方法，涉及第三代半导体抛光技术领域；所述螯合性表面活性剂为N2十二烷基乙二胺三乙酸盐，其抛光方法的步骤是：㈠、晶片入机；㈡、混合抛光液调配；㈢、pH值调节；㈣、抛光；其清洗方法的步骤是：㈠、晶片入槽；㈡、混合清洗剂调配；㈢、清洗；具有使用范围广、能有效去除碳化硅基材表面的金属离子、有效提高加工产品的速率和表面质量、提高抛光液的质量和清洗效率等特点，适用于碳化硅晶片的抛光和清洗。 实质审查
一种失效稀土抛光液的快速收集处理工艺 CN202211015969.7 2024-09-24 本发明公开的一种失效稀土抛光液的快速收集处理工艺，涉及精细化工技术领域，其工艺过程如下：（一）、曝气；（二）、调酸；（三）、调碱；（四）、无机絮凝；（五）、有机絮凝；（六）、压滤。具有环保、高效、快速、通用，既能满足废渣的收集，又能满足外排水合格排放的要求等特点，适用于对各种玻璃抛光后的失效稀土抛光液进行回收处理。 专利权的授权
一种多孔介纳米氧化锆的制备方法 CN202111149038.1 2023-06-16 本发明公开的一种多孔介纳米氧化锆的制备方法，涉及光学玻璃抛光材料制备技术领域。其制备步骤如下：⑴、分散剂配制；⑵、表面改性剂配制；⑶、沉淀剂配制；⑷、ZrO2前驱体制备；⑸、ZrO2前驱体酸化；⑹、水洗；⑺、干燥；⑻、焙烧。应用其方法所制备的氧化锆，具有良好的光学抛光性能，用于精密光学镜片抛光处理，既不划伤玻璃，又不腐蚀玻璃，还能解决国内产品在抛光过程中通常出现的阿拉比现象等特点，适用于特殊软材质光学玻璃的精密加工。 专利权的授权
一种纳米氧化钕包覆氧化锆粉体的制备方法 CN202010824411.8 2021-09-21 本发明公开的一种纳米氧化钕包覆氧化锆粉体的制备方法，涉及光学玻璃加工抛光所用材料的制备技术领域，其制备步骤如下：⑴、复合悬浮剂配制；⑵氯化钕和氯化镨溶液配制；⑶、沉淀剂制备；⑷、混合剂配制；⑸、沉淀反应；⑹、过滤；⑺、喷雾干燥；⑻、煅烧。按照本发明的制备方法所得的纳米氧化钕包覆氧化锆粉体，具有既能解决光学玻璃划伤问题，保证玻璃不被腐蚀，又能解决国内产品在抛光过程中通常出现的阿拉比现象等特点，适用于精密光学玻璃镜片加工，尤其适用于大口径光学玻璃镜片和特殊软材质光学玻璃的精密加工。 专利权的授权
一种免洗防尘光学玻璃清洗液 CN202010517944.1 - 本发明公开的一种免洗防尘光学玻璃清洗液，涉及精细化工技术领域；是由下列重量百分比的原料制备而成：渗透剂0.05‑1％、增稠剂0.05‑10％、碱性中和剂0.1‑20％、表面活性剂0.05‑20％、洗涤剂0.1‑10％、保湿剂0.1‑10％、防尘剂0.1‑10％、抑菌剂0.05‑0.5％、香精0‑0.5％、水20‑80％。具有清洗效果好、效率高、操作简便、安全、环保、免洗、防尘等特点，适用于光学玻璃研磨、抛光、求芯、镀膜、接合、涂墨后的清洗。 专利申请的驳回
一种改性氧化铝的制备方法 CN201910456479.2 - 本发明公开的一种改性氧化铝的制备方法，涉及抛光材料制备技术领域；其制备过程如下：⑴、配制悬浊液；⑵、配制酸液；⑶、混合；⑷、干燥用；⑸、煅烧；⑹、粉碎。具有工艺比较简单、其产品具有良好的机械化学性能等特点，既可用于光学蓝玻璃抛光，也可用于蓝宝石晶片抛光。 专利申请的驳回
一种蓝玻璃精抛液及其配制方法 CN201910456953.1 2020-11-10 本发明公开的一种蓝玻璃精抛液及其配制方法，涉及蓝玻璃抛光材料制备技术领域；包括以下重量组分:氧化锆浆料10‑30、碳酸锆浆料20‑40、二氧化硅浆料10‑20、增速剂1‑2、表面修饰剂0.5‑1、pH调节剂0.5‑1、着色剂0.5‑4、悬浮剂0.5‑1、水1‑57；其配制步骤如下：A、研磨浆料；B、过滤浆料；C、初次分散；D、再次分散。具有抛光效果好、抛光效率高、对环境无污染等特点，既可用于蓝宝石晶片抛光，也可用于金属、陶瓷、玻璃、树脂、漆面等领域的抛光。   专利权的授权
一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 CN201910456920.7 2021-01-01 本发明公开的一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法，涉及蓝玻璃抛光材料制备技术领域；包括以下重量份的组分：氧化铝100‑400、表面活性剂1‑40、缓蚀剂1‑80、pH调节剂1‑100、分散剂1‑40、悬浮剂1‑40、去离子水1000；其制备包括以下步骤：A、备料；B、初混合；C、复混合；D、pH调节。具有抛光效率高、对环境污染少、对设备腐蚀少等特点，适用于铜制表面的高精度抛光。   专利权的授权
一种氧化铝微粉抛光液及其制备方法 CN201810249064.3 - 本发明公开的一种氧化铝微粉抛光液及其制备方法，涉及蓝宝石晶片抛光材料技术领域；是由下列重量份的原料制备而成：氧化铝微粉1‑40、悬浮剂0.1‑3、表面活性剂0.05‑1、缓蚀剂0.01‑3、悬浮助剂0.2‑2、消泡剂0.01‑0.5、pH调节剂0.5‑5、去离子水45.5‑98.13；其制备步骤如下：⑴、备料；⑵、初混一；⑶、初混二；⑷、复混一；⑸、复混二；⑹、总混。具有工艺比较简单、在水中能够稳定悬浮、且具有良好的机械化学性能等特点，既可用于蓝宝石晶片抛光，也可用于金属、陶瓷、玻璃、树脂、漆面等领域的抛光。 专利申请的驳回
一种高效碳化硼研磨液及其配制方法 CN201610101314.X - 本发明公开的一种高效碳化硼研磨液及其配制方法，涉及蓝宝石研磨技术领域，包括以下重量份的原料：碳化硼微粉5-25、分散剂1-2、水性增稠剂0.5-1、防沉剂0.5-1、增效剂0.5-5、防锈剂0.5-1、基底液65-92份；所述基底液采用纯水、异丙醇、多元醇中的一种或多种混合而成，当为多种时，各组分的配比为等重量份或其它比例。具有使用寿命长、稳定性好、能够提高A向和M向蓝宝石研磨速率、且所加工产品的表面平整度好等特点，适用于蓝宝石晶片加工的粗研磨。 专利申请的驳回