专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种抛釉砖的制备方法 CN201510718578.5 - 一种抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：A、将粉料均匀铺设于冲压模具的下模的模腔内，由上模冲压压制获得具有围边环结构的坯体，所述上模的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模的模腔的布料面积，所述围边环在所述坯体的表面环绕形成布料腔，转移坯体备用；B、将步骤A获得的坯体干燥后，向其布料腔内施釉，形成装饰釉层；C、将步骤B所获得的具有装饰釉层的坯体入窑烧制，烧成；D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得具有装饰釉层的瓷砖。由本发明提出的制备方法所制得的抛釉砖的装饰釉层厚度增大，增强其镜面效果和透度立体感，保证釉面的平整度和完整性，提高瓷砖的产品质量和装饰效果。 专利申请的驳回
一种微晶玻璃瓷砖的制备方法 CN201510718598.2 - 一种微晶玻璃瓷砖的制备方法，包括以下步骤：A、将粉料铺设于冲压模具的下模的模腔内，由上模冲压压制获得具有围边环结构的坯体，所述上模的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模的模腔的布料面积，所述围边环在所述坯体的表面环绕形成布料腔，转移坯体备用；B、将步骤A获得的坯体干燥后，向其布料腔内布施微晶玻璃熔块或片状微晶玻璃；C、将步骤B所获得的已布施微晶玻璃熔块的坯体入窑烧制，烧成具有微晶玻璃层的坯体；D、抛光打磨：将烧成后的瓷砖，进行抛光打磨，获得微晶玻璃瓷砖。由本发明提出的制备方法所制得的微晶玻璃瓷砖，微晶玻璃层厚度增加，提高微晶玻璃瓷砖的表面的立体彩饰效果。 专利申请的驳回
一种具有围边的坯体结构及其冲压模具和所制备的陶瓷砖 CN201510717252.0 - 一种具有围边的坯体结构及其冲压模具和所制备的陶瓷砖，所述坯体的外沿设有凸起的围边，所述围边环绕所述坯体的边沿形成围边环，所述围边环所环绕形成的空腔为布料腔。本发明提出的一种具有围边的坯体结构，其可应用于微晶玻璃板、全抛釉等瓷质砖的生产制备中，在所述围边环的围边限定下，布料于坯体层上的釉料可以进行堆厚，其厚度可增加至3mm或3mm以上，可保证烧成后后续抛磨加工的装饰层的表面平整度和厚度，从而增加了瓷砖表层的镜面效果和透度立体感，且瓷砖的水波纹缺陷也越轻微，装饰层的布施厚度不再受其自身在坯体面上的流动性所影响。 专利申请的驳回
一种渗花瓷质砖的制备方法 CN201510717247.X - 一种渗花瓷质砖的制备方法，包括以下步骤：A、将粉料铺设于冲压模具的下模的模腔内，由上模冲压压制获得具有围边环结构的坯体，所述上模的冲压面设置有凸台，所述凸台的面积小于所述下模的模腔的布料面积，所述围边环在所述坯体的表面环绕形成布料腔，转移坯体备用；B、将步骤A所获得的坯体干燥后，向其布料腔内均匀布施面浆，形成装饰层；C、用数码喷墨印刷机将水溶性渗花墨水按设计好的渗花图案打印在已施面浆坯体的表面；D、将步骤C所获得的坯体干燥后，入窑烧制，烧成；E、抛光磨边：将烧成后的瓷砖进行抛光磨边。由本发明提出的制备方法所制得的渗花瓷质砖，增加浆层厚度，具有高耐磨性和耐污性，立体装饰效果好的优点。 专利申请的驳回
一种以粉煤灰为主要原料的负离子陶瓷制品及其制备方法 CN201510473989.2 - 一种以粉煤灰为主要原料的负离子陶瓷制品及其制备方法，所述陶瓷制品由以下质量百分数的原料制备而成：50-70％粉煤灰、10-30％骨灰、5-20％熟料、5-10％塑性粘土、0-10％助熔剂、负离子粉1-10％和0-6％辅料。本发明提出一种能大量消耗粉煤灰，使粉煤灰在陶瓷领域得到高效利用，并改变粉煤灰被填埋、用于做非陶瓷水泥砖或只用来生产低质陶瓷砖等的命运的负离子陶瓷制品及其陶瓷砖的制备方法，所获得的制品当与空气接触时，可形成带负电荷的空气负离子，提高使用环境的空气负离子浓度。 专利申请的驳回
一种以粉煤灰为主要原料的陶瓷制品及其制备方法 CN201510474654.2 - 一种以粉煤灰为主要原料的陶瓷制品及其制备方法，所述陶瓷制品由以下质量百分数的原料制备而成：50-70％粉煤灰、10-30％骨灰、5-20％熟料、5-10％塑性粘土、0-10％助熔剂和0-6％辅料。本发明提出一种能大量消耗粉煤灰，使粉煤灰在陶瓷领域得到高效利用，并改变粉煤灰被填埋、用于做非陶瓷水泥砖或只用来生产低质陶瓷砖等的命运且兼具透水砖及薄板砖两者优点的优质陶瓷制品及其陶瓷砖的制备方法。 专利申请的驳回
一种以粉煤灰为主要原料的防静电陶瓷制品及其制备方法 CN201510474620.3 - 一种以粉煤灰为主要原料的防静电陶瓷制品及其制备方法，所述陶瓷制品由以下质量百分数的原料制备而成：50-70％粉煤灰、10-30％骨灰、5-20％熟料、5-10％塑性粘土、0-10％助熔剂、半导体粉1-10％和0-6％辅料。本发明提出一种能大量消耗粉煤灰，使粉煤灰在陶瓷领域得到高效利用，并改变粉煤灰被填埋、用于做非陶瓷水泥砖或只用来生产低质陶瓷砖等的命运的防静电陶瓷制品及其陶瓷砖的制备方法，所获得的制品具有良好的防静电效果。 专利申请的驳回
一种以粉煤灰为主要原料的抗菌陶瓷制品及其制备方法 CN201510474315.4 - 一种以粉煤灰为主要原料的抗菌陶瓷制品及其制备方法，所述陶瓷制品由以下质量百分数的原料制备而成：50‑70％粉煤灰、10‑30％骨灰、5‑20％熟料、5‑10％塑性粘土、0‑10％助熔剂、抗菌粉1‑10％和0‑6％辅料。本发明提出一种能大量消耗粉煤灰，使粉煤灰在陶瓷领域得到高效利用，并改变粉煤灰被填埋、用于做非陶瓷水泥砖或只用来生产低质陶瓷砖等的命运的抗菌陶瓷制品及其陶瓷砖的制备方法，所获得的制品具有抗菌抑菌作用。 专利权的授权
一种改善釉浆性能的节能卧式储釉缸 CN201510263772.9 - 一种改善釉浆性能的节能卧式储釉缸，包括储釉缸、转动机构和底座，所述储釉缸为卧式柱体结构，且储釉缸通过转动机构可转动安装于底座；储釉缸包括筛网装置、筛网推顶装置和用于进出料的进出口；筛网装置可活动的卡装于储釉缸的内腔并将内腔分隔形成两个或两个以上具有相同截面的空间，所述空间通过筛网相连通；筛网推顶装置安装于储釉缸的内壁，其推顶端连接于筛网装置并提供推拉力给筛网装置，筛网装置在推拉力的作用下在储釉缸的内腔实现左右来回运动；所述进出口设置于储釉缸的中轴线任一侧。本发明提出一种改善釉浆性能的节能卧式储釉缸，在储釉缸内直接改善釉浆性能，同时通过储釉缸的自转避免了现有搅拌装置对釉浆粘度或流速的不良影响。 专利权的授权
一种改善釉浆性能的立式储釉缸 CN201510262798.1 - 一种改善釉浆性能的立式储釉缸，包括储釉缸、翻转机构和底座，所述储釉缸为立式柱体结构，且储釉缸通过翻转机构可活动翻转安装于底座；所述储釉缸包括筛网装置、筛网推顶装置和用于进出料的进出口；筛网装置可活动的卡装于所述储釉缸的内腔并将所述内腔分隔形成两个或两个以上具有相同截面的空间，两个或两个以上的所述空间通过筛网相连通；所述筛网推顶装置安装于储釉缸的内壁，其推顶端连接于筛网装置并提供推拉力给筛网装置，所述筛网装置在推拉力的作用下在储釉缸的内腔实现上下来回运动。本发明提出一种改善釉浆性能的立式储釉缸，在储釉缸内直接改善釉浆性能，同时通过储釉缸的自转避免了现有搅拌装置对釉浆粘度或流速的不良影响。 专利权的授权