专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种绝缘高导热聚酰亚胺复合薄膜、制备方法及其应用 CN202011442290.7 - 本发明公开了一种绝缘高导热聚酰亚胺复合薄膜，包括聚酰亚胺材料层和与所述聚酰亚胺材料层利用分子力相互复合固定的绝缘材料层，所述绝缘材料层包覆于所述聚酰亚胺材料层的上下表面，其中，所述聚酰亚胺材料层按重量百分含量，包括以下组分：聚酰亚胺树脂：60‑75％；氮化铝填料粒子：10‑20％；改性碳纤维：10‑15％；纳米二氧化硅：5‑7％；分散剂：5‑7％；偶联剂：1‑2％；所述改性碳纤维为经偶联剂改性的碳纤维；所述绝缘材料层为聚四氟乙烯材料层。本发明还提供了该绝缘高导热聚酰亚胺复合薄膜的制备方法及应用。本发明的有益效果在于：抗冲击强度和抗弯曲强度性能良好，可批量化生产，可应用于航天航空领域。 专利申请的撤回
一种超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜的制备方法 CN202011443525.4 - 本发明公开了一种超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜的制备方法，包括如下步骤：步骤一、填料改性；步骤二、黑色填料和聚酰胺酸复合溶液的制备；将黑色填料、聚酰胺酸、咪唑二胺和联苯二酐混合后形成添加物，添加物与有机溶剂混合，并超声分散0.5‑3小时得到中间溶液；步骤三、将中间溶液浸涂在无孔载体上，放入烘箱中，在氮气氛围下阶梯升温，脱水环化制得超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜。本发明制备得到的超黑耐原子氧聚酰亚胺薄膜在太阳光谱中具有超低的透射率和反射率，在宽的太阳光谱200‑2000nm范围内表现出接近零的超低透射率，并在紫外光谱区、可见红外光谱区分别具有5％和2％以下的低反射率，且具有有效的抗分解能力。 专利申请的撤回
一种高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜、制备方法及其应用 CN202011443752.7 - 本发明公开了一种高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜，通过在聚丙烯酸中按重量百分比掺杂2‑3％的2,5‑双{[4‑氨基苯氧基]苯基}二苯基氧膦、10‑15％的超支化聚硅氧烷以及4‑6％的纳米SiO2制备而成。本发明还提供了一种高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜的制备方法。本发明还提供了一种高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜的应用，将提供的高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜用于航天飞行器表面保护。本发明提供的一种高强度耐原子氧聚酰亚胺透明薄膜、制备方法及其应用的有益效果在于：力学性能和机械性能好，拉伸强度高，最高抗拉强度均高达89MPa左右，具有优异的耐原子氧性。 专利申请的撤回
一种低介电聚酰亚胺、低介电聚酰亚胺薄膜、制备方法及其应用 CN202011442314.9 - 本发明公开了一种低介电聚酰亚胺薄膜，包括低介电聚酰亚胺，还包括引入含氟单体与所述低介电聚酰亚胺复合，制备聚酰亚胺基体材料层，再将氟化石墨烯纳米片引入到所述聚酰亚胺材料层内，得到低介电聚酰亚胺薄膜。本发明还提供了该低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用。本发明的有益效果在于：减少5G高频下的串扰和信号损耗；具有低热膨胀系数、良好光学性能、出色的耐热及机械性能。 专利申请的撤回
一种柔性显示基板用耐高温聚酰亚胺的制备方法 CN202011442120.9 - 本发明公开了一种柔性显示基板用耐高温聚酰亚胺的制备方法，包括如下步骤：步骤一、称取咪唑二胺30‑40重量份、联苯二酐40‑50重量份；聚己内酯5‑10重量份，2‑（4‑氨基苯基）‑5‑氨基苯并咪唑10‑20重量份，石墨烯0.5‑5重量份混合形成原料，将原料与有机溶剂混合搅拌均匀，形成聚酰胺酸树脂溶液，原料与有机溶剂的质量体积比为1:10‑15；步骤二、对聚酰胺酸树脂溶液进行抽滤、真空脱泡，然后流延在流延板上，固化成胶膜；步骤三、将胶膜从室温经过分段升温至400～480℃，每隔30～80℃为一个温度段。本发明所制备的聚酰亚胺薄膜具有低热膨胀性、低吸湿率、高耐热性及高强韧等特点，克服了传统聚酰亚胺薄膜的缺点，使得其更利于作为柔性显示基板使用。 专利申请的撤回
一种高耐热超低膨胀聚酰亚胺薄膜的制作方法 CN202011442072.3 - 本发明公开了一种高耐热超低膨胀聚酰亚胺薄膜的制作方法，包括如下步骤：步骤一：称取原料，与溶剂搅拌混合得到聚酰胺酸树脂溶液；步骤二、对聚酰胺酸树脂溶液进行抽滤、真空脱泡，然后均匀涂覆在基板的表面，加热至100‑200℃，保温至形成树脂胶膜，然后自基板上剥离；步骤三、将树脂胶膜膜四周固定于金属模具的框架上，以2‑5℃/min的速度升温至500℃，然后以1‑3℃/min的速度降温至200‑300℃，保温30‑60min退火，然后自然将降温至室温即得到高耐热超低膨胀聚酰亚胺薄膜。本发明所制备的聚酰亚胺薄膜兼具低热膨胀性、低吸湿率、高耐热性及高强韧等特点，克服了传统聚酰亚胺薄膜的缺点，有效提高了聚酰亚胺薄膜的使用范围。 专利申请的撤回
一种高导热石墨材料的制备方法 CN202010566111.4 - 本发明公开了一种高导热石墨材料的制备方法，包括以下步骤：(1)将离子液体与聚酰胺酸树脂混合均匀，或通过在离子液体中添加二胺单体和二酐单体发生聚合反应，得到杂化后的聚酰胺酸树脂溶液；(2)将杂化后的聚酰胺酸树脂溶液经亚胺化得到聚酰亚胺材料；(3)将聚酰亚胺材料进行石墨化处理，得到高导热石墨材料。本发明可在相同的热处理温度下提高无定型碳向石墨化转变的程度或者在保证石墨化程度的前提下降低热处理温度，实现聚酰亚胺基的催化低温碳化石墨化制备高石墨化程度的高导热石墨材料。   专利（申请）权的转移
一种黑色哑光聚酰亚胺薄膜及其制备方法 CN202010201330.2 2022-09-09 本发明公开了一种黑色哑光聚酰亚胺薄膜，该聚酰亚胺薄膜中均匀分布有碳量子点、二氧化钛粉末、金刚石粉末和炭黑。该黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法：将碳量子点、二氧化钛粉末、金刚石粉末、炭黑加入有机溶剂中，并加入分散剂，研磨，得到黑色浆料；在黑色浆料中加入二胺和芳香族二酐，搅拌，使反应体系粘度达到1500～4000Pa.s后终止搅拌，真空消泡处理，成膜，加热亚胺化，得到黑色哑光聚酰亚胺薄膜。本发明的黑色聚酰亚胺薄膜在可见光范围内的透光率≤0.45％，光泽度≤25GU，其电场击穿强度≥140kV/mm，拉伸强度≥210MPa，断裂伸长率≥60.5％，具有良好的遮光效果、电气绝缘性能和力学性能。 专利权的授权
一种高性能无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法 CN202010142888.8 - 本发明提供了一种高性能无色透明聚酰亚胺薄膜及其制备方法。该方法具体为：在惰性气体保护下，将脂环族二胺、含POSS结构二胺加入酚类溶剂中，待二胺完全溶解后再加入二酐，升温后再加入乙炔基单胺，继续升温进行反应，将反应所得混合物冷却并倒入乙醇溶液中，将析出的白色丝状聚酰亚胺树脂溶于极性非质子溶剂中，进行过滤、真空脱气消泡处理，然后将树脂溶液流延在不锈钢板上，在惰性气氛下进行加热处理，之后进行剥离得到聚酰亚胺薄膜。采用该方法制得的无色透明聚酰亚胺薄膜，具有优异的耐溶剂性、耐热性以及较高的尺寸稳定性，还具有良好的力学性能，可以广泛应用于包括太阳能电池、柔性显示屏的基板或盖板材料等多个领域中。 实质审查
一种高性能聚酰亚胺薄膜及其制备方法 CN201911283175.7 2022-08-23 本发明提供了一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法，该方法是在惰性气氛下，将二元胺POSS、含乙炔基二胺和含氟二胺加入酚类溶剂中，待其溶解后加入刚直型二酐和扭曲型二酐，反应后再加入含乙炔基单胺，之后采用一步法或者两步法进行亚胺化，将得到的聚酰亚胺树脂溶液倒入沉淀剂中析出，再溶于酰胺类溶剂中得到胶液，然后将胶液流延至不锈钢板上，进行梯度加热，得到高性能聚酰亚胺薄膜。该方法通过在分子链结构的中间引入含乙炔基官能团的二胺，以及在分子链末端引入带有乙炔基的单胺，利用二元胺POSS的笼型结构和乙炔基在一定温度下实现交联固化，形成网络状分子结构，使透明聚酰亚胺薄膜的耐溶剂性能、力学性能和耐热性能得到全面提升。 专利权的授权