专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种喷射式废气处理用喷淋装置 CN202011081919.X - 本发明提供一种喷射式废气处理用喷淋装置，包括喷淋塔，进气管，分流管，支架，反射台，排气口，“┤”形管，滤箱，滤网，储水箱，导管，水阀，增压泵和喷射装置；本发明喷射头的设置，喷射头在接头上围绕成一个圈，保证喷射面积能完全覆盖喷淋塔，使废气无死角净化；反射台的设置，反射台上设置有半球体，可以将喷射头喷出的水向各个方向进行反弹，形成细小的水珠，增加净化水与废气的接触面积，使废气净化效率提高；十字管和排气头的设置，使废气在喷淋塔内更加均匀的扩散上升，防止废气集中上升导致净化不完全的问题；“┤”形管和滤箱的设置，滤箱将“┤”形管内设置的滤网过滤掉的空气废渣收集，有效防止空气废渣堆积造成的堵塞的问题。   专利申请的撤回
脉冲直流镀膜电路及方法 CN202410768369.0 - 本申请公开了一种脉冲直流镀膜电路及方法，包括电源模块、第一开关模块、第一电感模块和电容。电源模块的正极用于连接镀膜负载的第一端，电源模块用于输出电流。第一开关模块的第一端连接镀膜负载的第二端，第一开关模块周期性导通，使得电源模块向镀膜负载提供脉冲电流。第一电感模块的第一端连接第一开关模块的第二端，第一电感模块的第二端连接电源模块的负极。电容的第一端连接电源模块的正极，电容的第二端连接第一电感模块的第一端。在第一开关模块关断的情况下，第一电感模块对流经的电流进行续流，电源模块对电容充电至尖峰电压，使得在下一次第一开关模块导通时，电容向镀膜负载提供尖峰电压，第一电感模块输出续流的电流至镀膜负载。 实质审查
一种供电电路、供电电路的控制方法及镀膜电源 CN202410768379.4 - 本申请实施例公开了一种供电电路、供电电路的控制方法及镀膜电源，涉及供电技术领域，供电电路包括：电源模块；第一开关模块；第二开关模块，与电源模块的第一端、第一开关模块的第一端连接；第三开关模块，与电源模块的第二端、第一开关模块的第一端连接，第一开关模块、第二开关模块和第三开关模块均用于改变电源模块的供电模式；储能模块，储能模块的第一端与电源模块的第一端连接，储能模块的第二端与第一开关模块的第一端连接；负载模块，与电源模块的第二端连接；电源模块的供电模式包括由第一供电模式包括第一供电阶段、第二供电阶段和第三供电阶段形成的第一供电模式；其中，不同开关模块在不同供电阶段的工作状态不同。 实质审查
硅片镀膜负载状态检测修复装置、方法及系统 CN202410715781.6 - 本申请公开了一种硅片镀膜负载状态检测修复装置、方法及系统，装置包括双极性镀膜电源，用于输出双极性电流电压给连接硅片镀膜负载；电压电流采样电路，电压电流采样电路用于采集双极性镀膜电源的输出电压电流数据；控制器，电压电流采样电路的输出端连接控制器的反馈端以用于根据双极性镀膜电源的输出电压电流数据判断硅片镀膜负载的工作状态，工作状态包括正常状态和异常状态，控制器的输出端连接双极性镀膜电源的控制端以用于当硅片镀膜负载出现异常状态时控制双极性镀膜电源输出不同的脉冲电压以修复异常状态。能够检测硅片镀膜负载的异常状态并直接进行修复，避免浪费生产时间和硅片资源，提高生产效率和经济效益。 实质审查
一种镀膜电源及其控制方法 CN202311493767.8 - 本发明公开了一种镀膜电源及其控制方法，镀膜电源包括：三相LLC谐振电路，其整流电路包括三相桥和输出电阻；辅助模块，包括电压输入电路、升降压变换电路和辅助LLC谐振电路，辅助LLC谐振电路与三相桥串联，且与三相LLC谐振电路的电路结构相同；反馈控制电路，用于生成第一调频控制信号发送至三相LLC谐振电路的开关管，控制升降压变换电路的输出电压与第一输出电压的第一输出纹波的大小相同且极性相反，生成第一辅助控制信号发送至辅助LLC谐振电路的开关管，以使得辅助LLC谐振电路的第二输出电压与第一输出纹波的大小相同且极性相反。本发明能够降低残余能量，降低输出纹波，提高电源响应速度，提高电源效率。 实质审查
一种电源拓扑结构及其控制方法、介质 CN202311473490.2 - 本发明公开了一种电源拓扑结构及其控制方法、介质，电源拓扑结构包括：LLC谐振电路，包括斩波电路、三个谐振电感、三个谐振电容、变压器电路、三相桥和输出电阻；检测装置，用于检测变压器电路的初级电流、整流电路的输出电流和输出电压；反馈控制电路，用于在正常工作频率范围内通过调频控制进行恒流控制或恒功率控制，在工作频率达到最高工作频率后输出电流或输出功率仍大于预设输出范围时通过脉宽调节控制进行恒流控制或恒功率控制；最低工作频率根据预设的输出电压纹波系数得到，最高工作频率根据最低工作频率和LLC谐振电路的增益曲线得到。本发明实施例能够降低残余能量，降低输出纹波，提高电源响应速度，提高电源效率。 实质审查
一种双极脉冲电源、电源控制方法及可读存储介质 CN202210810031.8 2023-07-14 本发明公开了一种双极脉冲电源、电源控制方法及可读存储介质，双极脉冲电源包括电压输入单元、多个降压式变换单元、多个电流采样单元、换相单元、输出采样单元、控制单元。多个降压式变换单元可以实现以倍频工作频率工作，多个电流采样单元一一对应采集到多个降压式变换单元的采样电流，输出采样单元采集换相单元的输出电压、输出电流、输出功率，控制单元生成多个占空比不同的目标脉冲驱动信号，且每个目标脉冲驱动信号的占空比的变化步长根据输出电压、输出电流、输出功率以及多个采样电流确定，通过约束目标脉冲驱动信号占空比的变化步长，防止脉冲驱动信号发生突变，降低双极脉冲电源的浪涌冲击，提高双极脉冲电源的可靠性和稳定性。 专利权的授权
一种双极电压脉冲电源拓扑结构及控制方法 CN202210809349.4 2023-09-01 本发明公开了一种双极电压脉冲电源拓扑结构及控制方法，双极电压脉冲电源拓扑结构包括：电压输入单元，具有第一电压输出端和第二电压输出端，用于将交流电转为直流电；交错倍频降压式变换单元，具有第一降压输出端、第二降压输出端、与第一电压输出端连接的第一电压转换端，与第二电压输出端连接的第二电压转换端；开关单元，并联在第一降压输出端和第二降压输出端之间；换相单元，具有与第一降压输出端连接的第一换相输入端、与第二降压输出端连接的第二换相输入端、第一换相输出端和第二换相输出端，第一换相输出端和第二换相输出端用于输出电压。本发明实施例的双极电压脉冲电源拓扑结构，能够降低开关损耗，提高整机效率，加快换相速度。 专利权的授权
一种卧式真空镀膜机 CN201910748001.7 2023-08-22 本发明公开了一种卧式真空镀膜机，包括卧式真空镀膜室和两个工件上下料机构，所述卧式真空镀膜室的两侧设置有可开闭的上下料口，两个所述工件上下料机构对应所述上下料口设置并可交替地将工件送入所述卧式真空镀膜室。本发明中的真空镀膜机将传统的立式结构改为卧式结构，无需搭建高台，方便工人装卸工件，有利于保证安全生产，并且同时设置有两个工件上下料机构，可以交替进行上料、下料，生产效率高，降低了车间要求，有利于降低生产成本，实用性强。 专利权的授权
一种立式硅片磁控溅射镀膜机 CN201810448149.4 2023-03-07 本发明公开了一种立式硅片磁控溅射镀膜机，包括：真空室、设置在真空室内用于悬挂和移动硅片的传动装置，以及用于抽真空的真空抽气系统、用于供电和控制工作状态的电源控制系统；所述真空室包括互相密封连接的的清洗室和溅射室，清洗室内设置有离子清洗电极，溅射室内设置有溅射靶；传动装置包括设置在真空室内的硅片挂板、挂板底座、轨道车，硅片挂板与挂板底座可拆卸连接，轨道车顶部开设有凹槽，挂板底座底部设置有凸出部，挂板底座通过凸出部和凹槽的配合与轨道车固定插接。采用本设计可以减少真空室体积、真空效果好，并且取放硅片方便，能够有效去除硅片表面残渣并加热，镀膜后的成片效果好。 专利权的授权