- 专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
- 采样钻头及其采样方法 CN202110647859.1 2022-12-13 本发明公开了一种采样钻头及其采样方法,该采样钻头包括:螺旋片筒套,螺旋片筒套的外表面设有螺旋片;电磁铁,置于螺旋片筒套的内腔中;钻头,安装于螺旋片筒套的前端。该采样钻头通过螺旋片筒套和钻头一起旋转可钻入被采样物中,通过电磁铁通电使螺旋片筒套的表面产生磁力,通过整个螺旋片筒套的表面吸取物料;如果需要的取样量较多,只需要增长螺旋片筒套的长度,无需增大螺旋片筒套的直径,不会增大采样钻头进入物料内部的阻力,采样钻头仍然能够轻易地进入物料内部进行取样。该采样钻头结构简单、操作方便,很好地解决了现有的电磁吸盘采样方式无法进入物料的内部取样、取样量少的问题。 专利权的授权
- 龙门五轴联动抛光机 CN202110278852.7 - 本发明公开了一种龙门五轴数控抛光机,包括:支架,支架包括底座及安装于底座的两根龙门柱,两根龙门柱相互平行且分别设置于底座的两相对侧;抛光头装置,抛光头装置包括与两根龙门柱滑动连接的背板、安装于背板的多个抛光头单体及与抛光头单体连接的抛光轮,抛光头单体驱动抛光轮对待抛光工件进行抛光;工作台,工作台靠近抛光头装置固设于底座,工作台包括固设于底座的基架、与基架转动连接的安装板、驱动安装板旋转的第一电机、安装于安装板的多个减速机及同时驱动多个减速机旋转的第二电机,减速机的端部用于安装待抛光工件。与相关技术相比,本发明提供的龙门五轴数控抛光机,工件大角度转动、同时存放耗材较多且能够自动更换刀具。 专利申请的驳回
- 一种浸油式多轴抛光头装置 CN202110278868.8 - 本发明公开了一种浸油式多轴抛光头装置,包括抛光头封板,所述抛光头封板呈筒状设置,所述抛光头封板包括多块可拆卸连接的封合板,所述抛光头封板的两端还设置有左封板和右封板;所述抛光头封板、左封板和右封板围合形成动力腔,所述的动力腔密封设置;所述封合板上依次排列设置有多个齿轮箱,所述动力腔内转动连接有动力轴,所述动力轴与所述齿轮箱传动连接。本方案通过左、右封板与抛光头封板围合密封的设置,能够在动力腔内填充润滑油,从而保证从动齿轮等始终浸在润滑油内,延长装置的使用寿命。 专利申请的驳回
- 双工位抛光机 CN202011055443.2 - 本发明公开了一种双工位抛光机,包括机架、横移驱动组、升降驱动组、双工位压力平衡装置和抛光组,双工位压力平衡装置包括固定机座、升降机座、平衡升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装,平衡升降机构安装在固定机座上,升降机座安装平衡升降机构上,一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上,一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上,一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接,横移驱动组安装在机架上,固定机座与横移驱动组连接,升降驱动组安装在机架上,抛光组与升降驱动组连接。该双工位抛光机具有结构简单可靠、能实现双工位抛光力度平衡、能提高产品质量的优点。 实质审查
- 双工位抛光压力平衡装置 CN202011051467.0 - 本发明公开了一种双工位抛光压力平衡装置,包括固定机座、升降机座、升降机构、一对压力传感器和一对装夹工装,升降机构安装在固定机座上,升降机座安装在升降机构上,一对压力传感器分别安装在固定机座和升降机座上,一对装夹工装分别安装在一对压力传感器上,一对压力传感器以及升降机构之间通过信号联接。该压力平衡装置具有结构简单可靠、能提高产品质量的优点。 实质审查
- 可调式偏心轮机构 CN202011055424.X - 本发明公开了一种可调式偏心轮机构,包括配重块和轴承,轴承安装在配重块上并与配重块呈偏心布置,配重块与轴承之间设有用于调节轴承偏心量的调节环,调节环与配重块以及轴承连接。该偏心轮机构具有结构简单可靠、可降低成本、偏心量可调的优点。 专利申请的撤回
- 开式结构的齿轮箱 CN202011051465.1 - 本发明公开了一种开式结构的齿轮箱,包括壳体、输入齿轮、输出齿轮、输入端支承组件和输出端支承组件,输入齿轮通过输入端支承组件安装在壳体内,输出齿轮通过输出端支承组件安装在壳体内,输入齿轮和输出齿轮相互啮合,壳体设有镂空部,输入齿轮和输出齿轮的啮合端位于镂空部内。该齿轮箱具有结构简单紧凑、成本低廉、可实现浸油式润滑的优点。 实质审查
- 一种手机玻璃刘海凹槽的抛光方法 CN202011055463.X - 本发明公开了一种手机玻璃刘海凹槽的抛光方法,包括以下步骤:S1:将手机玻璃进行装夹,使刘海凹槽处于待抛光工位;S2:采用柔性抛光轮对刘海凹槽进行挤压式抛光,柔性抛光轮挤压时对刘海凹槽形成包覆;S3:将手机玻璃水平旋转180°,再重复步骤S2。该抛光方法具有可简化抛光工序、可降低抛光成本、能提高抛光质量和抛光效率的优点。 实质审查
- 一种抛光压力反馈补偿结构及抛光机 CN202010838517.3 2022-10-11 本发明公开了一种抛光压力反馈补偿结构及抛光机,抛光压力反馈补偿结构包括控制器、用于驱动旋转工件轴组件沿抛光机的Y轴方向移动的滑移驱动机构以及用于对工件所受到的抛光压力进行实时监测的压力传感器,工件设置在旋转工件轴组件上,压力传感器和滑移驱动机构均与控制器相连接,滑移驱动机构与旋转工件轴组件相连接。该抛光压力反馈补偿结构及抛光机能够对抛光工件压力进行实时监测反馈,并对抛光工件的压力进行补偿,实现抛光工件压力精准恒定,提高抛光效率和工件质量。 专利权的授权
- 抛光定位夹具及其打磨设备 CN201811101604.X - 一种抛光定位夹具,用于分别对待抛光的手机卡托或者手机按键进行装夹定位,包括连接基座、中间垫板及定位托盘。中间垫板安装于连接基座上。定位托盘包括支撑板及多个定位条,支撑板安装于中间垫板上,多个定位条均设置于支撑板上,各波峰部上均开设有多个定位槽,各定位槽的底部均开设有插接孔。一种抛光定位夹具通过设置连接基座、中间垫板及定位托盘,定位托盘上的多个定位槽用于容置手机卡托或者手机按键,提高抛光效率,且使得手机卡托及手机按键能够共用一套夹具,更换抛光产品时,不需要切换夹具,降低操作人员工作强度,节省设备开发成本。 专利(申请)权的转移

