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真空镀膜室 CN202411260415.2 - 本发明公开了一种真空镀膜室，包括用于容纳产品的镀膜腔室，镀膜腔室内安装有一个以上阴极装置，至少一个阴极装置设有遮挡装置，遮挡装置包括分设于阴极装置两侧的两个隔挡机构，隔挡机构包括隔板和隔挡驱动组件，隔挡驱动组件与隔板相连并能驱动隔板运动以调节隔板与镀膜腔室内产品的距离，两个隔挡机构的隔板与镀膜腔室内壁围成开口朝向镀膜腔室内产品的凹腔，阴极装置位于凹腔内。该真空镀膜室具有可提高镀膜质量、使用灵活性好、结构简单紧凑、成本低、易于制作装配、控制简便等优点。 专利的公布
一种真空镀膜室 CN202411262296.4 - 本发明公开了一种真空镀膜室，包括用于容纳产品的镀膜腔室，镀膜腔室具有供产品进出的出入口和用于通入工艺气体的进气孔，镀膜腔室内设有用于遮挡进气孔的遮挡件和驱动遮挡件运动以调整遮挡位置的驱动装置，通过调整遮挡件的遮挡位置使遮挡件在遮挡进气孔和不遮挡进气孔的状态切换。该真空镀膜室具有使用灵活性高、可提高镀膜质量、结构简单、成本低、易于实施应用等优点。 公开
一种多腔室真空镀膜设备 CN202411255449.2 - 本发明涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种多腔室真空镀膜设备，真空镀膜设备包括多个腔室，各腔室包括两相对设置的腔壁，其中出入口腔室与相邻腔室之间设有隔离门阀，还包括腔室门，腔室门、腔壁和隔离门阀共同围合形成出入口腔室，腔室门活动铰接在出入口腔室的出入端上以使腔室门朝向出入口腔室一侧形成安装部。具有降低成本、减小占地面积的优点。 专利的公布
一种用于AF膜的蒸发镀膜装置 CN202411251850.9 - 本发明涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种用于AF膜的蒸发镀膜装置，包括安装架，安装架一侧安装有多组间隔布置的AF液蒸发机构，安装架另一侧安装有与AF液蒸发机构数量匹配的挤液机构，安装架在该侧还安装有储液装置，储液装置的出液端与各挤液机构的进液端连接，各挤液机构的出液端与对应的AF液蒸发机构连接。具有提高生产效率、加药定量精准、降低成本的优点。 专利的公布
一种输送装置及真空镀膜生产线 CN202411248336.X - 本发明公开了一种输送装置及真空镀膜生产线，输送装置包括第一底座和用于输送工件转架的可移动式输送机，可移动式输送机以能移动调整位置方式设置在第一底座上，可移动式输送机设有用于驱动工件转架转动的转架驱动组件。真空镀膜生产线包括真空处理设备和用于输送工件转架的外部输送线，真空处理设备内设有用于输送工件转架的内输送装置，外部输送线与内输送装置相连，外部输送线设有一个以上输送装置。本发明具有可调整装卸料位置、降低生产制造成本和装配难度、提高使用灵活性和简便性等优点。 专利的公布
磁控溅射真空镀膜装置 CN202311853272.1 - 本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶靶材内设有磁棒，磁棒通过角度调节组件以能调节角度的方式安装在靶材内。采用该磁控溅射真空镀膜装置便于改善提高镀膜均匀性。 实质审查
一种卧式双面镀膜机 CN202311855855.8 - 本发明公开了一种卧式双面镀膜机，包括双面镀膜室和装设于所述双面镀膜室内的转盘，所述转盘上沿周向布设有多个基片安装位，各基片安装位上均装设有基片安装盘，所述基片安装盘上设有与基片适配的安装孔，所述基片安装盘沿周边设有用于释放热应力的应力释放部。该卧式双面镀膜机具有可避免基片安装盘受热变形、提高机械手对基片安装盘的抓取准确性的优点。 实质审查
一种磁控溅射真空镀膜装置 CN202311842860.5 - 本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶靶材内设有中间磁棒和位于中间磁棒两侧的两根侧部磁棒，中间磁棒和两根侧部磁棒的两端分别为S极和N极，中间磁棒的S极端和两根侧部磁棒的N极端位于靶材一端，中间磁棒的N极端和两根侧部磁棒的S极端位于靶材另一端，两根侧部磁棒分别通过角度调节组件以能绕靶材轴线调节角度的方式安装在靶材内。采用该磁控溅射真空镀膜装置便于改善镀膜均匀性。 实质审查
真空镀膜装置 CN202311855868.5 - 本发明公开了一种真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，旋转架上于任意相邻两块矩形挂板之间均设有将该相邻两块矩形挂板分隔开的隔挡件，沿旋转架径向向外的方向各隔挡件的高度大于两侧矩形挂板上基片的高度。该真空镀膜装置具有可提高镀膜均匀性，且结构简单、易于实施应用、实施成本低等优点。 实质审查
一种真空镀膜装置 CN202311853205.X - 本发明公开了一种真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的三组以上靶材，三组以上靶材环绕旋转架的转动轴线依次布置，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，三组以上靶材中位于最外侧两组靶材的外侧与放置在矩形挂板上基片之间的空隙为外侧空隙，旋转架上安装有将外侧空隙部分封堵的封堵件。该真空镀膜装置具有可提高镀膜均匀性，且结构简单、易于实施应用、实施成本低等优点。 实质审查