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一种用于真空玻璃的排气封口装置及方法 CN202410691251.2 - 本发明公开了一种用于真空玻璃的排气封口装置及方法，属于真空玻璃加工技术领域，包括真空仓，所述真空仓内设有输送系统，所述输送系统上方设有两个伸缩加热器，两个伸缩加热器一端贯穿真空仓仓体连通外部，所述两个伸缩加热器另一端设有加热头，所述加热头位于输送系统的正上方；所述真空仓内壁设有进料口；所述真空仓内设有下料梯，所述下料梯一端连接进料口，下料梯另一端端部设有镂空下料板，所述镂空下料板位于靠近输送系统末端的伸缩加热器与输送系统间。本发明通过自动化设计，无需传统两步法的两次升降温，只对封口部进行加热，降低了能源损耗、提高了加工精度。 实质审查
一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架 CN202410664942.3 - 本发明公开了一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片可调节工件架，属于真空镀膜领域，内工件架固定于外工件架内部，框架轨道固定于内工件架一侧，基片安装于框架轨道的框架内，框架轨道上安装有若干支撑部件，支撑部件位于基片四周；外工件架包括外框架，外框架顶部设置有上挡板，上导向条通过若干上绝缘屏蔽组件安装于上挡板，外框架底部通过下绝缘屏蔽组件安装于底板焊接件，外框架下部设置有下挡板，下挡板位于下绝缘屏蔽组件上方。框架轨道可以调节框条的距离，支撑部件可在框架轨道移动，调节位置，从而可适应不同规格的基片固定，尤其是异形曲面基片。并且外工件架上下皆设置有绝缘屏蔽组件，工件架与基片不会发生放电情况，避免对基片造成损害。 实质审查
一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片工件架 CN202410664952.7 - 本发明公开了一种用于真空溅射镀膜的异形曲面基片工件架，属于真空镀膜领域，内工件架固定于外工件架内部，基片安装于防绕射屏蔽板框，并通过防绕射屏蔽板框安装于内工件架，外框架顶部设置上挡板，上导向条通过若干上绝缘屏蔽组件安装于上挡板，外框架底部通过下绝缘屏蔽组件安装于底板焊接件，外框架下部设置有下挡板，所述下挡板位于下绝缘屏蔽组件上方。将基片固定于防绕射屏蔽板框，再安装于内工件架，防止基片晃动，拆装方便，并设置防绕射支架，防止蒸发源释放出的蒸汽分子或原子在到达基片表面之前发生不必要的绕射或散射，保证基片背面不被污染。外工件架上下皆设置有绝缘屏蔽组件，工件架与基片不会发生放电情况，避免对基片造成损害。 实质审查
一种非规则曲面工件镀膜阴极用伸缩机构 CN202211381796.0 - 本发明公开了一种非规则曲面工件镀膜阴极用伸缩机构，包括矩形阴极、阴极支撑管、安装门板、丝杠副、连接板、驱动装置、控制装置，安装门板与真空腔体密封连接，矩形阴极背板的上下侧各连接有一根阴极支撑管，阴极支撑管的另一端穿过安装门板并通过焊接波纹管与安装门板大气侧密封连接，连接板一侧与阴极支撑管固定连接，另一侧与丝杠副的螺母固定连接，驱动装置用于驱动丝杠副的丝杆正反转动，控制装置用于通过控制驱动装置驱动阴极支撑管往复运动，实现矩形阴极靶面始终和工件保持一个相对稳定的靶基距。本发明解决了非规则曲面工件表面镀膜在生产线直线传输生产时的膜层均匀性难题，保证了曲面工件表面沉积膜层的均匀性。 实质审查
一种磁控溅射区域降温装置 CN202011024218.2 - 本发明公开了一种磁控溅射区域降温装置，该磁控溅射区域降温装置安装在磁控阴极的正对面、基片与磁控阴极之间，包括水冷板，所述水冷板底部通过支撑座固定在真空镀膜箱体底部，水冷板上部通过固定支架固定在镀膜箱体上部，所述水冷板朝向基片一侧的面板上焊接有呈蛇形分布的冷却水管，所述冷却水管的进水端及出水端分别通过密封装置与真空镀膜箱体底部密封连接。本发明的磁控溅射区域降温装置安装在磁控阴极的正对面、基片与磁控阴极之间，通过水冷板及冷却水管的设置，可通过水冷来降低周边温度，保证了基片表面的正常工艺温度。 实质审查
磁场可调的磁控溅射阴极 CN202011024220.X - 本发明公开了一种磁场可调的磁控溅射阴极，包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板，磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成，每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接，调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱，调节螺母转动连接在固定底板上，调节螺杆与调节螺母螺纹连接，调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接，固定底板上设有导向孔，导向柱一端与独立磁场模块固定连接，另一端与导向孔配合。本发明将磁体装置在高度方向上分成多段独立磁场模块，每块独立磁场模块均可通过调节螺母来实现前后移动，从而调节磁场前后的距离，实现高度方向上不同区域膜厚不一致的工艺生产要求。   实质审查
一种耐高温基片夹具 CN202011024205.5 - 本发明公开了一种耐高温基片夹具，包括由左、右立柱和上、下横梁连成一个整体的框架，在上、下横梁上分别设置有用于装载基片的卡槽，在左、右立柱分别设置有翻板机构，翻板机构包括固定在左立柱/右立柱上的固定座，固定座上通过销轴转动连接有压板，在左立柱/右立柱上嵌入安装有耐高温磁铁，压板与耐高温磁铁相对应部位为能被磁铁吸引的金属材质，压板与基片接触部位为PEEK材质。本发明的耐高温基片夹具采用钛合金材质的整体框架，更加耐高温，卡槽、压板选用比金属质软又能耐高温的PEEK材质，不会造成玻璃基片表面划伤，翻板机构操作便捷，基片装卸方便，中间连杆及PEEK材质的隔套可对玻璃基片起到有效的保护作用。   实质审查
一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架 CN202011024183.2 - 本发明公开了一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆，上支撑盘固定在上支撑座上，下支撑盘固定在下支撑座上，撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，活动挂板可沿导轨绕转轴转动。通过转动活动挂板可以控制活动挂板到溅射阴极之间的距离，使挂板跟溅射阴极呈现不同的溅射距离，从而改变挂板各个区域的成膜厚度，给工艺调节提供的更广泛的使用条件。   实质审查
一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置 CN202011024209.3 - 本发明公开了一种用于真空镀膜设备的简易格栅装置，包括固定板、拉伸气缸、活动杆、活动板，所述固定板固定在真空室抽气口处，在固定板上沿垂直方向设置有多个开口，所述拉伸气缸固定在真空室抽气口的顶板上，拉伸气缸的活塞杆端通过连接套与活动杆连接，所述活动杆延伸至真空室抽气口内，在活动杆上固定有多块活动板，所述活动板与固定板上的开口相匹配，拉伸气缸通过活动杆带动活动板上下移动，从而实现对固定板上的开口的封闭和开启。本发明的用于真空镀膜设备的简易格栅装置结构简单、拆卸方便、能耐高温、加工便捷、成本低廉，易损备件都是常规产品，有效降低了生产成本和提高了运行效率。   实质审查
一种用于真空镀膜机的高温加热辊装置 CN201911015244.6 - 本发明公开了一种用于真空镀膜机的高温加热辊装置，包括真空镀膜室，在真空镀膜室内设有加热辊、电磁加热器、屏蔽冷却环，加热辊包括空心辊筒、端板、支撑轴，支撑轴为空心轴，空心辊筒、端板、支撑轴全部采用气密性焊接使加热辊的内部形成真空密封；电磁加热器包括设置在空心辊筒内的线圈支撑筒、绕设在线圈支撑筒上的感应线圈，线圈支撑筒两端连接有安装轴，安装轴通过滚动轴承安装在支撑轴内；屏蔽冷却环安装在空心辊筒两侧的支撑轴上，包括屏蔽板和冷却环。本发明的高温加热辊装置能够长期在真空环境下使用，可满足基材高温镀膜的要求，实现基材在高温工艺环境下的镀膜生产，提高基材镀膜品质及生产效率。 实质审查