- 专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
- 一种真空设备的基板加热台 CN201610763502.9 2018-10-12 一种真空设备的基板加热台。它主要是解决现有工艺繁琐、生产效率低和产品质量不稳定等技术问题。其技术方案要点是:包括加热平板(1)、加热底板(2)、加热台支柱(3)、镀膜挡板(7)、屏蔽板框(8)、电极引入件(9)、辅助加热器(10)、外圈加热器(11)、内圈加热器(12)和升降架(13),所述加热台支柱(3)上依次设有加热平板(1)和加热底板(2),加热平板(1)和加热底板(2)中间设有外圈加热器(11)和内圈加热器(12),四周设有辅助加热器(10),加热平台一侧连接有电极引入件(9),所述加热平台周围设有屏蔽板框(8)。它主要是应用于真空玻璃生产和制备。 专利权的授权
- 真空玻璃动态辊压装置 CN201610667037.9 - 一种真空玻璃动态辊压装置。它主要是解决现有厚度不均匀及封实漏真空等技术问题。其技术方案要点是:包括旋转气缸(1)、真空密封轴(2)、凸轮机构(3)、压辊框(4)、压辊(5),所述旋转气缸(1)上设有真空密封轴(2),通过真空密封轴(2)与凸轮机构(3)连接,所述凸轮机构(3)嵌入压辊框(4)内,所述压辊框(4)连接压辊(5)。它主要是应用于真空玻璃生产制备。 专利申请的驳回
- 一种复合扫描磁场镀膜机 CN201610632264.8 - 一种复合扫描磁场镀膜机,它主要是解决现有阴极靶材的利用率低,靶材采购量大,人工投入大等技术问题。其技术方案要点是:包括真空室体、阴极腔体(1)、磁钢部件(2)、横向驱动部件(3)和纵向驱动部件(4),所述阴极腔体(1)和真空室体密封构成溅镀室,所述阴极腔体(1)底部设有靶材槽,磁钢部件(2)安装在阴极腔体(1)内,形成封闭环形磁场,所述阴极腔体(1)上端设有纵向驱动部件(4),纵向驱动部件(4)上端连接横向驱动部件(3),所述磁钢部件(2)连接横向驱动部件(3)。它主要是应用于真空溅射镀膜。 专利申请的撤回
- 真空玻璃设备破空热风发生器 CN201610633245.7 - 一种真空玻璃设备破空热风发生器。它主要是解决现有产品低合格率,温差变化大,破空时间长等技术问题。其技术方案要点是:包括电控箱(1)、加热桶(2)、控制阀(3)、气体管道(4)、保温桶(5),所述气体管道(4)上设有加热桶(2),所述加热桶(2)两端的气体管道(4)各设有控制阀(3),气体管道(4)一端连接保温桶(5),所述保温桶(5)两端的气体管道(4)各设有控制阀(3),所述电控箱(1)分别连接控制各位置的控制阀(3)和加热桶(2)。它主要是应用于真空玻璃生产和制备。 专利申请的撤回
- 多功能真空设备翻板阀门 CN201610632243.6 - 一种多功能真空设备翻板阀门,它主要是解决现有配套设备不完善等技术问题。其技术方案要点是:包括阀门(8)、阀板(2)、气缸(3)和拉手(5),所述阀门(8)安装在多功能真空设备上,阀门(8)上设有阀板(2),所述阀板(2)中间设有安装拉手(5),所述气缸(3)一端连接阀板(2),另一端连接阀门(8)。它主要是应用于真空设备生产。 专利申请的撤回
- 一种工件夹具 CN201010513112.9 - 一种工件夹具。它主要是解决现有普通槽型夹具容易与工件产生摩擦,既影响工件质量,也浪费能量等技术问题。其技术方案要点是:它包括U型槽架和连接块,在U型槽架的开口端内壁对称安装有左磁铁和右磁铁,左磁铁和右磁铁的磁极相反。它通过在U型槽架的开口端内壁对称安装磁极相反左磁铁和右磁铁,左磁铁和右磁铁的磁场作用下,使铁工件与U型槽架两侧保持一定间隙,可既不产生摩擦,又能平稳的通过夹具。它可广泛应用于传送铁工件或带铁夹的工件的传动机械上。 专利申请的撤回
- 同步传动机构 CN201010513113.3 - 一种同步传动机构。它主要是解决现有机械同步传动的结构比较复杂,且成本较高、或同步不可靠等技术问题。其技术方案要点是:在圆锥齿轮(1)的外侧齿面配合安装有2个以上的传动齿轮。它可通过在圆锥齿轮1的两侧对称配合安装左传动齿轮2和右传动齿轮3,从而可通过圆锥齿轮1驱动右传动齿轮2和左传动齿轮3朝相反方向完全同步地转动;它也可使右传动齿轮2与左传动齿轮3的中心轴线夹角大于0度,小于180度,从而可实现在不同方向上的同步传动。它可既减化产品结构,节省了成本,而且可实现完全同步功能,工作更加可靠。它可广泛应用于各种需要同步传动的机械上。 专利申请的驳回
- 用于真空连续镀膜生产线的回转机构 CN201010514338.0 2012-07-04 一种用于真空连续镀膜生产线的回转机构。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。其技术方案要点是:它包括上传动磁流体、下传动磁流体、旋转框、下支撑法兰和上支撑法兰,上传动磁流体和下传动磁流体垂直对称安装在同一轴线上;上传动磁流体的下部安装有上支撑法兰,并在下传动磁流体的上部对称安装有下支撑法兰;在下支撑法兰和上支撑法兰之间安装有旋转框,在下传动磁流体内密封安装有下旋转轴,下旋转轴的下部安装有旋转驱动装置。它可控制两个工件架在此实现180度的掉头运行,使工件返回到生产线上进行再继续加工。它特别适合真空生产线的生产工艺中,从而可大约减少一半的真空设备,节省了成本。 专利权的授权
- 用于真空连续镀膜生产线的回转仓 CN201010514614.3 2012-08-22 一种用于真空连续镀膜生产线的回转仓。它主要是解决现有连续加工设备生产线比较长、成本较高等技术问题。其技术方案要点是:它包括仓体、回转仓门框、测位装置和回转机构,仓体固定安装在仓体机架上,在仓体的一侧设置有回转仓门框,在仓体内设置有与仓体内腔相适应的回转机构和与回转机构相配合的测位装置。也可在仓体的一侧设置有检测门;或在仓体的顶部设置有仓顶水管;或在仓体的一侧设置有仓体侧壁水管;或在回转仓门框的外侧连接有仓体连接门套。所述回转机构包括上传动磁流体、下传动磁流体、旋转框、下支撑法兰和上支撑法兰,上传动磁流体和下传动磁流体垂直对称安装在同一轴线上,在下传动磁流体内密封安装有下旋转轴,下旋转轴的下部安装有旋转驱动装置。它可控制两个工件架在此实现180度的掉头运行,使工件返回到生产线上进行再继续加工。它特别适合真空生产线的生产工艺中,从而可大约减少一半的真空设备,节省了成本。 专利权的授权
- 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极 CN200810143347.6 - 一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极,它属于一种平面磁控溅射阴极。它主要是解决现有平面阴极的靶材利用率相对较低等技术问题。其技术方案要点是:它由包括阴极体外壳(5)、磁靴(6)、磁铁(3)、冷却通道(2)和靶材(1)构成,并在靶材(1)和冷却通道(2)之间设置有调整磁场的金属薄片(7),所述金属薄片(7)为导磁金属材质。所述金属薄片(7)与靶材(1)的底部固联。在靶材(1)的底部设置一凹槽,金属薄片(7)嵌装在靶材(1)的底部设置的凹槽内。它可使靶材表面的水平方向的磁场在更大范围内达到均匀,从而提高靶材利用率,它可使靶材利用率由通常的20%-28%,提高到35%-38%。它可广泛应用于磁控溅射镀膜技术领域。 专利申请的撤回

