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一种连续镀膜生产线进出口室充气装置 CN201811537929.2 - 本发明公开了一种连续镀膜生产线进出口室充气装置，包括充气管道、设置在充气管道上的真空阀门、与真空阀门连接并伸入真空箱体的匀气管，充气管道上通过支管连接有预充真空阀门，预充真空阀门连接匀气管并伸入真空箱体内，所述预充真空阀门的口径小于真空阀门，匀气管安装在真空箱体的顶部，在匀气管下方、基片的上方设置有第一挡板，所述第一挡板与真空箱体壁间留有空隙，在基片的两侧靠近基片各设有第二挡板，所述第二挡板通过支撑杆固定在真空箱体的内壁上，基片的上下端两块第二挡板之间留有空隙。采用本装置充气时，可减小气体对基片的正面冲击力度，从而不会对基片造成损伤，同时也可减小箱体内部粉尘对基片的影响。 专利申请的驳回
一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置 CN201811537919.9 - 本发明公开了一种连续镀膜生产线中基片框架偏压引入装置，包括引入电极，所述引入电极外套接有绝缘套并穿过真空腔体壁伸入真空腔体内，引入电极与真空腔体壁之间密封连接，引入电极在大气侧通过电缆连接偏压电源，在真空腔体内靠近引入电极一侧的腔体挡板上设有孔洞，引入电极在真空腔体内一端连接有弹片，弹片连接有滑轮，弹片及滑轮穿过腔体挡板上的孔洞并可与基片框架过盈接触。本发明的偏压引入装置引入电极通过弹片和滑轮与基片框架过盈接触，弹片施加一定的力使滑轮完全与基片框架接触，滑轮与基片框架之间为面接触，同时不影响基片框架的往返运动，解决了偏压引入装置与基片框架接触不良和接触不到的问题。 专利申请的驳回
一种可调节的基片装夹机构 CN201811537517.9 - 本发明公开了一种可调节的基片装夹机构，包括上部连接框架、下部连接框架，上部连接框架、下部连接框架之间通过两根圆杆连接，在两根圆杆之间设有多个挂钩组件，所述挂钩组件包括挂杆，所述挂杆两端分别活动连接在圆杆上，在挂杆上设有多个挂钩，基片装夹在相邻的两个挂钩组件的挂钩上，整个基片装夹机构通过上部连接框架、下部连接框架安装在镀膜腔内。本发明采用外框统一、内部调整的方式，在生产过程中不需要更换夹具就能实现不同产品的安装，可以适用不同的基片规格，通过调整挂钩组件可以把间隙调整到很小，减少了工件之间的无效区域，挂钩组件同时也起到了配重的作用。 实质审查
一种真空室内传输机构定位装置 CN201811536957.2 - 本发明公开了一种真空室内传输机构定位装置，包括传输机构、传输机构驱动马达、PLC，PLC通过控制传输机构驱动马达的速度和时间定位传输机构的位置，在定位位置处的真空室箱体上设有通孔，气缸通过密封座固定在通孔处，在靠近真空侧一端密封座内部安装有导向套，气缸的活塞杆沿导向套移动，在活塞杆末端安装有活动定位块，活动定位块上设有倒V型凸起，传输机构上安装有固定定位块，固定定位块上设有与倒V型凸起匹配的倒V型定位槽，PLC控制气缸动作。本发明的定位装置通过在定位位置处的真空室箱体上设置气缸，由设置在气缸上的活动定位块与设置在传输机构上的固定定位块配合来保证每一次的精准定位。 实质审查
一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构 CN201811536972.7 - 本发明公开了一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构，包括基片架，还包括光电传感器、PLC，在基片架底部的下横板上开设有一排穿透下横板的等距离分布的腰槽孔，在一侧的真空腔体壁上与腰槽孔对应位置处安装有光电传感器发射端，另一侧的真空腔体壁上安装有光电传感器接收端，光电传感器发射端、光电传感器接收端位于腰槽孔的中线上，PLC与光电传感器连接。本发明的测速机构通过基片架上等距离腰槽孔的设计,通过光电传感器接收端接收到穿过腰槽孔的的信号，PLC分析可以准确的定位到基片架行走的准确位置，位置能精确到毫米级别，也能计算和控制基片架速度，为控制镀膜的均匀性提供了可靠的依据。 实质审查
一种真空室用降温装置 CN201811537203.9 - 本发明公开了一种真空室用降温装置，包括底板、盖板、水冷管，所述底板通过固定柱安装在真空室壁上，在底板朝向真空室一面开有S型迂回弯曲的水冷槽，水冷槽均匀分布在底板上，水冷管穿透真空室壁后嵌在水冷槽中，水冷管进水端和出水端与真空室壁连接处通过密封装置密封，盖板通过螺栓固定在底板上并封住水冷管。本发明通过均匀分布的水冷管来降低盖板的温度，通过间接吸收热量的方式来吸收基片表面的温度以达到降温的目的，吸热更加均匀，盖板同时可对水冷管起到保护作用，安装时整体安装，安装维护方便，安装维护时不会有冷却水进入真空室。 实质审查
一种真空镀膜机真空室基片架升降机构 CN201810859250.9 - 本发明公开了一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，在真空室底板下方固定有两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。本发明的升降机构可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离，从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的独立传输，其工作过程平稳，气密性好，在整个工作过程中不会造成真空度的变化。 专利申请的驳回
一种真空镀膜机真空室内磁导向平移机构 CN201810859252.8 2024-01-30 本发明公开了一种真空镀膜机真空室内磁导向平移机构，包括真空室、磁导向装置，还包括多根横向穿过真空室两侧侧板的连接杆，多条磁导向装置纵向固定在连接杆上，连接杆的一端固定在安装板上，在安装板与真空室之间的连接杆外套有波纹管，连接杆的另一端套在密封套筒内，在真空室的两端还各设有一根横向穿过真空室两侧侧板的传动杆，在传动杆上固定有夹具，传动杆一端与固定在安装板上的旋转马达连接，另一端套在密封套筒内，所述安装板与平移驱动装置连接，平移驱动装置可带动安装板往返移动。本发明可以实现多个基片架在单箱体真空环境下的左右平移，使基片架在平移过程中的保持平稳，整个工作过程中不会造成真空度的变化。 专利权的授权
一种真空镀膜机基片架传送系统 CN201810859235.4 2024-01-30 本发明公开了一种真空镀膜机基片架传送系统，包括机械平移机构、磁导平移机构、升降机构、控制模块，机械平移机构包括与驱动马达连接的传动杆Ⅰ，与传动杆Ⅰ两端连接的安装板上Ⅰ，与安装板上Ⅰ连接的平移马达Ⅰ，磁导平移机构包括固定在连接杆上的磁导向装置，设置在磁导向装置两端的夹具，平移马达Ⅱ驱动的安装板Ⅱ，升降机构包括固定在真空室底板下方的两个气缸，与气缸连接的端板，端板的两端各设有一伸入至真空室内用于顶起基片架的支撑座。本系统解决了多个基片架在单箱体真空环境下的平移互换功能，能实现每个基片架的独立传输，缩短了整个真空设备的长度，提高了生产效率，整个工作过程都在真空环境下进行，不会造成真空度的变化。 专利权的授权
一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置 CN201810859240.5 2024-05-31 本发明公开了一种真空镀膜机真空室内基片架传送装置，包括传输机构和平移机构，传输机构包括多根穿过真空室两侧侧板的传动杆，传动杆的两端分别安装在两块安装板上，在真空室外的传动杆外套有波纹管，传动杆一端的末端安装有同步带轮，相邻两根传动杆上的同步带轮安装位置相对，两块安装板上的马达通过同步带与同侧的传动杆上的同步带轮连接，在真空室内的传动杆上装有摩擦轮，相邻两根传动杆上的摩擦轮交错排布，平移机构包括平移马达、丝杠、丝杠螺母、平移导向装置，平移马达通过同步带与丝杠连接，丝杠螺母通过连接杆与安装板连接。本发明实现了同一真空室环境下对多个基片架进行往返传输，缩短了真空设备的长度，提高了生产效率。 专利权的授权