专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种几何相位光学元件的制备方法 CN202410237104.8 - 本申请公开了一种几何相位光学元件的制备方法，涉及光学元件技术领域。本申请的几何相位光学元件的制备方法，包括将基体放置于飞秒激光加工系统上；飞秒激光加工系统沿第一扫描方向扫描基体预设深度的第一区域，以在预设深度处形成第一纳米孔结构，再沿第二扫描方向扫描基体预设深度的第二区域，以在预设深度处形成第二纳米孔结构，完成预设深度处纳米孔结构的加工，第一纳米孔结构以及第二纳米孔结构的快轴方向与其扫描方向的夹角均小于预设夹角；在基体的多个预设深度处分别加工纳米孔结构以形成几何相位光学元件。本申请提供的几何相位光学元件的制备方法，能够提高几何相位光学元件的透射率，并降低透射率的偏振依赖性。 实质审查
一种激光刻写控制装置及控制方法 CN202311854035.7 - 本发明公开一种激光刻写控制装置及控制方法，涉及光学与电气控制技术领域，控制部件控制旋转部件带动波片旋转，使通过波片的激光变为第一偏振态激光，并控制移动部件带动基片移动，在移动过程中通过控制遮挡部件，使得第一偏振态激光仅对基片上偏振态方向为第一方向的待刻写位置点进行刻写，控制部件控制旋转部件带动波片旋转，使通过波片的激光变为第二偏振态激光，并控制移动部件带动基片移动，在移动过程中通过控制遮挡部件，使得第二偏振态激光仅对基片上偏振态方向为第二方向的待刻写位置点进行刻写，从而能够对激光的偏振态进行控制，采用不同偏振态的激光对基片上的不同位置点进行刻写，以对基片进行改性。 实质审查
一种光刻胶旋涂仪 CN202311864316.0 - 本发明公开了一种光刻胶旋涂仪，涉及光刻胶涂覆技术领域，包括支撑架、上罩、电主轴、旋转盘、贴合载具、风机和抽气装置，上罩固定于支撑架上端，电主轴通过安装座固定安装在支撑架内，旋转盘固定于电主轴的输出端并设置于上罩内底部，贴合载具能够拆卸连接在旋转盘上，贴合载具上端设有用于放置玻璃基板的安装槽，贴合载具上设有用于将玻璃基板压装于安装槽内的压装夹具，风机设置于上罩顶部，用于向安装槽内的玻璃基板吹风，贴合载具外侧的上罩内设有围绕贴合载具的一圈通气孔，各通气孔连通上罩内的排气腔，排气腔通过排气管路与抽气装置连接。本发明提供的光刻胶旋涂仪，能够以较高转速进行光刻胶的涂覆，并且能够提高涂覆质量。 实质审查
白光偏转装置 CN202311705088.2 - 本发明涉及光学技术领域，公开一种白光偏转装置，以丰富更多应用场景中的功能需求。装置包括：至少包括垂直于同一光轴方向的第一和第二消色差偏振光栅，且两个消色差偏振光栅的参数配置分别为：第一消色差偏振光栅，液晶聚合物层材料所对应的周期为p1，液晶聚合物层厚度参数满足相位延迟为650纳米的半波；第二消色差偏振光栅，液晶聚合物层材料所对应的周期为p2，液晶聚合物层厚度参数满足相位延迟为450纳米的全波、且为650纳米的半波；且p1与p2的满足特定关系以使得经第二消色差偏振光栅出射的红光和蓝光平行。 实质审查
液晶偏振光栅滤光组件 CN202311668256.5 - 本发明涉及光学元器件技术领域，公开一种液晶偏振光栅滤光组件，以基于衍射的原理实现0级滤波并确保在较窄半高宽下仍然保持高透过率。本发明组件包括：级联地N（N≥2）片周期相同的液晶偏振光栅；且各级液晶偏振光栅的出射端各设有一孔径光阑；各孔径光阑的孔径大小与入射光光斑的大小相等，且任一孔径光阑距前一级液晶偏振光栅的间距与预估适用波段范围内最小波长所对应衍射角正切值的乘积大于或等于入射光光斑直径，下一级偏振光栅的液晶层的厚度是前一级偏振光栅所对应液晶层厚度的二倍；且第一级液晶偏振光栅的液晶层厚度d需满足特定条件。 实质审查
飞秒激光加工纳米泡结构的参数筛选方法 CN202311216195.9 - 本发明涉及光学技术中的飞秒微加工领域，公开一种飞秒激光加工纳米泡结构的参数筛选方法，以确保纳米泡加工结构的可靠性。方法包括：在第一偏振方向，通过部署相应的光路系统筛选出纳米泡的参数组合，该参数组合包括：光斑大小、线距大小、重复频率、单脉冲能量、峰值功率密度、脉冲密度及脉冲宽度；然后在当第一偏振方向逐一变更为其它偏振方向，再保持在第一偏振方向所确定的目标波长和延迟量最大的参数组合中的线距大小、光斑大小、重复频率、峰值功率密度和脉冲宽度不变，通过调整脉冲密度和/或单脉冲能量的方式筛选出同一光路系统对应其他偏振方向单层纳米泡的参数组合。 实质审查
基于纳米泡结构的几何相位元件及其制备方法 CN202311212051.6 - 本发明涉及飞秒微加工领域，公开一种基于纳米泡结构的几何相位元件及其制备方法，以实现批量化生产并确保性能。方法包括：部署光路系统，标定各偏振方向加工纳米泡所统一的部分参数、半波延迟量所对应的层距和层数及各偏振方向所分分别对应的脉冲密度和单脉冲能量；以从下至上的顺序逐一加工各层的纳米泡结构，在加工完下一层的切换至上一层的过程中，通过三轴位移台Z轴方向下移一个单位的层距大小；在加工单层纳米泡结构的过程中，通过三轴位移台X轴和Y轴方向的位移逐一进行单个纳米泡结构的加工；在加工单个纳米泡结构的过程中，根据目标偏振方向对应的标定关系控制功率衰减模块、偏振控制模块和三轴位移台执行相应的联动操作。 实质审查
一种一体式三轴位移平台 CN202311074026.6 - 一种一体式三轴位移平台，包括底板、Z轴移动机构、Y轴移动机构和X轴移动机构，所述Z轴移动机构包括Z轴滑座、Z轴滑台、Z轴调节件和Z轴复位组件，所述Y轴移动机构包括Y轴滑台、Y轴调节件和Y轴复位组件，所述X轴移动机构包括X轴滑台、X轴调节件和X轴复位组件；所述Z轴滑座有两块，间隔且平行地安装在底板的上表面；两块Z轴滑座之间设置有Z轴滑台，且Z轴滑台与Z轴滑座滑动连接；所述Y轴滑台、Y轴复位组件、X轴滑台和X轴复位组件均嵌入安装在两块Z轴滑座之间的空间中。本申请中的一体式三轴位移平台集成度高，体积相对更小，平台内部受力均匀，有效避免了发生导轨偏载而影响调节精度的情况。 实质审查
提升液晶盒响应速度的方法及系统 CN202311035937.8 - 本发明涉及光电技术领域，公开一种提升液晶盒响应速度的方法及系统，以辅助配套光学系统性能的整体提升。方法包括：获取切换的目标电压；根据液晶盒的材料、当前电压所处的电压区间、目标电压所处的电压区间、以及当前电压与目标电压之差所处的区间确定调制时长内所对应的第三电压；所述第三电压分布在以当前电压与目标电压为端点的中间区间之外；将所述液晶盒的驱动电压从当前电压切换至所述目标电压的过程中，分解为：先在调制时长的起点，将当前电压切换至所述第三电压；然后维持第三电压直至调制时长的终点；在调制时长的终点到来后，再从所述第三电压切换至所述目标电压。 实质审查
消色差波片延迟量计算方法及系统 CN202311012231.X - 本发明涉及光学技术领域，公开一种消色差波片延迟量计算方法及系统，以提高设计的实时性并扩展应用场景的普适性。消色差波片延迟量δA的计算方法方法包括：由级联的各个单片波片的琼斯矩阵相乘获得消色差波片的琼斯矩阵；计算消色差波片的光轴；在计算得到消色差波片的光轴方位角后，利用偏振方向与消色差波片光轴方向平行的线偏振光的琼斯矢量右乘消色差波片的琼斯矩阵，得到透射光的琼斯矢量；将透射光琼斯矢量除以与消色差波片光轴方向平行的入射线偏振光的琼斯矢量，计算得到的结果即为以为指数的自然指数函数；对计算得到结果进行相位提取，再取绝对值，得到的结果即为 实质审查