- 专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
- 一种点数和强度均可调节的激光分束加工系统及方法 CN202211592692.4 - 一种点数和强度均可调节的激光分束加工系统,沿激光前进方向依次包括激光发生器、扩束模块、分束模块和聚焦模块;所述扩束模块用于对激光发生器发出来的光束进行扩大;所述分束模块用于将激光最终分成多个分束点,并对各分光束的数目和能量强度进行调节;所述聚焦模块用于聚焦从分束模块射出的分光束,包括反射镜和场镜;所述分束模块包括波片和分区光栅;且波片更靠近扩束模块;所述分区光栅分为多个半区,且各个半区的线栅方向不同。本发明的激光分束加工系统,通过波片和分区光栅组成的分束模块可以对单束激光进行分束,能够灵活控制分束点的数量,同时也可以调节分束点之间的能量分配。 实质审查
- 基于涡旋相位圆偏光矢量叠加的检测系统及方法 CN202211197385.6 - 本发明涉及光学检测技术领域,公开一种基于涡旋相位圆偏光矢量叠加的检测系统及方法,以精准测量透光被测物的厚度均匀度。方法包括:处理器获取无被检测物时相位检测器所采集到的第一矢量偏振场,在将被检测物置于偏振光栅与第一涡旋波片或第二涡旋波片之间后,获取相位检测器所采集的第二矢量偏振场,并对比有被检测物时叠加的矢量偏振场与无被检测物时叠加的矢量偏振场之间的偏振态差值,并根据圆偏光矢量叠加原理得出被检测物透光部中垂直于光轴的截面上各坐标点的相位分布,然后对各坐标点的相位分布进行解包裹后得到截面上各坐标点因厚度所导致的相位延迟量,再根据截面上各坐标点的相位延迟量求解得出被检测物透光部的厚度均匀度。 实质审查
- 基于艾里光束的切割系统及方法 CN202211197378.6 - 本发明涉及光学技术领域,公开一种基于艾里光束的切割系统及方法,以实现对切割光斑的精准定位及灵活进行位置切换。系统包括:激光光源;共光轴的偏振片、偏振光栅旋转组件和透镜;偏振光栅旋转组件包括偏振艾里光束发生器和能分别绕光轴旋转的第一偏振光栅和第二偏振光栅;且三者紧贴以能将入射的线性偏振光分离成两束基于光轴对称的艾里光束、且随第一偏振光栅和/或第二偏振光栅旋转而改变偏转方向的各出射的艾里光束能视为同一出射点;控制主机用于通过控制第一偏振光栅和第二偏振光栅的旋转角度来定位及切换出透镜后各个艾里光束焦点在定焦平面上的位置坐标,定焦平面与光轴垂直并部署有置于切割台上的被切割对象。 实质审查
- 一种双倍焦深的贝塞尔激光加工头 CN202211108220.7 - 一种双倍焦深的贝塞尔激光加工头,包括用于将入射激光束转换为贝塞尔光束的锥透镜和用于将光束聚焦到加工面的透镜组,在所述锥透镜与所述透镜组之间设置有光束平移环;所述锥透镜为液晶平板锥透镜,液晶平板锥透镜将入射激光束转换为发散和汇聚两束环形光束,所述两束环形光束经过光束平移环后进入透镜组,使两束环形光束的焦深区域拼接在一起。发明中提供双倍焦深的贝塞尔激光加工头,通过液晶平板锥透镜与光束平移环的配合,在给定同样的激光特性的条件下,可以形成更长的焦深,最大可达普通激光加工头焦深的两倍,从而可实现切割加工效率和加工质量的同步提升。 实质审查
- 用于制备光栅尺的夹具及其联控方法 CN202210730299.0 2024-01-30 本发明涉及光学制造技术领域,公开一种用于制备光栅尺的夹具及其联控方法,以提高光栅尺的制备精度。本发明夹具设置有用于在光刻时将光栅尺基带当前的目标光刻区域同步压紧并拉直于工作台面的联动机构;所述联动机构设有三组气缸及两组负压真空管路,且还用于在电机牵引以切换到下一目标光刻区域的过程中,释放部分压紧作用力并继续保持所述光栅尺基带处在所述夹具工作台面上的拉直状态;确保了光栅尺刻写过程中的高平整度并全程有效避免了光栅尺起拱等情况,从而有效避免了对刻线的精度所造成的干扰。 专利权的授权
- 光栅尺的并行同步制备系统 CN202210730297.1 2024-01-30 本发明涉及光学制造技术领域,公开一种光栅尺的并行同步制备系统,以提高光栅尺的制备精度和效率。系统包括送料装置、收料装置、夹具及光刻模组;夹具在工作台面的水平方向上设有平行的对应至少两条光栅尺基带的尺槽,并设置有用于在光刻时将各光栅尺基带当前的目标光刻区域同步压紧并拉直于工作台面的联动机构;该联动机构还用于在电机牵引以切换到下一目标光刻区域的过程中,释放部分压紧作用力并继续保持各光栅尺基带处在夹具工作台面上的拉直状态;光刻模组用于将预先设置图样中相间隔的至少两条平行光栅尺排布的像素信息与各光栅尺基带在尺槽中的实际光刻区域对齐后,与联动机构进行联动以将图样中的刻线信息刻入相对应的光栅尺基带上。 专利权的授权
- 基于多纵模激光测量直线位移台定位精度的系统及方法 CN202210426302.X - 本发明涉及光学检测技术领域,公开一种基于多纵模激光测量直线位移台定位精度的系统及方法,以实现对位移台定位精度进行高精度检测。本发明通过所采集位移台在运动过程中系列散斑图片与散斑对比度周期的对应关系计算运动初始状态与最终状态之间的光程差,由于该光程差与位移台的直线位移成2倍关系,因此可以将该位移台实际的直线位移值精确到微米级,再将该实际位移值与位移台自身得出的行程做比较可以计算得出位移台的直线定位精度,且整个操作简单便捷。 实质审查
- 基于单纵模激光测量被测对象参数的系统及方法 CN202210424789.8 - 本发明涉及光学检测技术领域,公开一种基于单纵模激光测量被测对象参数的系统及方法,以提高检测的效率和便捷性。系统包括:光源为单纵模激光的干涉发生装置,在发生干涉的一束光波中设置有改变光程的调节器,呈现干涉发生装置所发生干涉图像的散射片,对散射片所呈现图案进行拍照的图像采集器,及与图像采集器进行数据通讯的主机。在测量过程中,将被测对象最初状态与最终状态对干涉发生装置的改变替换调节器对光程差所带来的改变,再查找基准曲线得到该被测对象在初始状态和最终状态所分别对应光程差之间的差值,最后根据差值得到被测对象相应参数的结果,由于光程差能精确到纳米级的定位,整个过程操作简单便捷且高精度。 实质审查
- 一种激光切割装置 CN202210206493.9 - 一种激光切割装置,包括壳体、四分之一波片和透镜,四分之一波片和透镜均安装在壳体内,透镜包括依次排列的衍射锥透镜、第一透镜和第二透镜,其中衍射锥透镜更靠近四分之一波片,第一透镜和第二透镜组成一个双远心系统。本发明的激光切割装置可以用于不同厚度的透明材料加工,系统简单,成本低,装配简单。 实质审查
- 一种偏振补光灯 CN202210206481.6 - 一种偏振补光灯,包括壳体、光源、偏振光栅、偏振转换器和复合整形透镜,光源发出的非偏振光射向偏振光栅,偏振光栅用于将非偏振光转换为两束旋向相反的偏振光,光束偏转角为θ,偏振转换器用于将两束旋向相反的偏振光转换成偏振状态一致的偏振光,复合整形透镜安装在偏振转换器后方,用于对从偏振转换器射出的光束收拢并匀化。 实质审查

