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一种提高ITO靶材焊合率的生产加工方法 CN202210136473.9 - 本发明公开了一种提高ITO靶材焊合率的生产加工方法，其特征在于，先在背板的焊接面等距设置多个标点，每个标点采用电钻形成一个标记孔，然后将电钻钻头更换为圆锥磨头进行扩孔处理，然后将圆锥磨头更换为球形磨头，对扩孔进行打磨至形成光滑的球形凹面，在凹面内继续钻孔，形成多个沿凹面径向方向分布的针孔，最后，对扩孔进行再次打磨，使孔内表面光滑，待所有孔位打磨好后，在背板上形成多个均匀布设的凹坑，再将背板焊接面的平整区打磨光滑。本发明通过在背板的焊接面打磨多个球形凹面，同时在凹面内钻有沿凹面径向方向的针孔，在焊料浇筑过程，焊料流入凹面和针孔内，冷却后加强焊料与背板的吸附强度，有效提高靶材的焊合率。 专利申请的驳回
电解法制备高活性氧化铟的方法、ITO靶材的制备方法 CN202210031235.1 2023-09-19 本发明所提供了一种电解法制备高活性氧化铟的方法、ITO靶材的制备方法，电解法制备高活性氧化铟的方法包括以下步骤：（1）金属铟为阳极，导电基体为阴极，硝酸铵水溶液为电解液进行电解，得到氢氧化铟沉淀；温度控制在25～45℃之间，电流密度为15～20A/dm2，电压为0.35～0.45V；（2）将氢氧化铟沉淀水洗、压滤、干燥，得氢氧化铟；（3）煅烧。ITO靶材的制备方法，包括以下步骤：1）采用上述方法制备氧化铟；2）将氧化铟及氧化锡混匀，加水球磨，喷雾干燥造粒，得粉料；3）将粉料进行冷等静压成型；4）气氛烧结。本发明先通过优化的制备工艺，制备出高活性氧化铟粉末，再将该高活性氧化铟与氧化锡经混合球磨、造粒成型、气氛烧结可得到高密度ITO靶材。 专利权的授权
硝酸铟溶液的制备方法、高活性氧化铟的制备方法及应用 CN202210031987.8 2023-11-07 本发明提供了一种硝酸铟溶液的制备方法、高活性氧化铟的制备方法及应用，硝酸铟溶液的制备方法包括以下步骤：（1）金属铟热熔后加入水，得铟花；（2）铟花加入稀硝酸，密闭反应釜，升温，搅拌反应；高活性氧化铟的制备方法包括以下步骤：1）制备硝酸铟溶液；2）稀释硝酸铟溶液，加入氨水进行共沉淀反应，将沉淀产物分离，将所得铟沉淀物进行水洗、干燥，得氢氧化铟粉体；3）向氢氧化铟粉体中加入去离子水，球磨，干燥后煅烧，得到高活性氧化铟粉体；本发明加入稀硝酸与铟花反应，使所得硝酸铟溶液中硝酸铟产率高、纯度高，后续制备氧化铟，无需添加活性剂，即可制备出具备不团聚、均匀性好、活性大、纯度高的纳米级In2O3粉末。 专利权的授权
一种高效ITO废靶回收再利用的方法 CN202110242917.2 - 本发明公开了一种高效ITO废靶回收再利用的方法，属于ITO靶材回收技术领域，该方法包括以下步骤：S1、清洗：用丙酮擦拭ITO废靶表面，然后用超声波清洗干净，干燥后备用；S2、电弧气化：将清洗后的ITO废靶放入直流电弧气化反应室中，通入100‑200V直流电压产生的电弧，以将ITO废靶熔化、气化；S3、粉末回收：将气化后的ITO废靶骤冷，然后经分级收粉系统，得到ITO粉末。本发明In的回收率较高，且具有高效、环保节能等优点。 专利申请的驳回
一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺 CN202110243038.1 2022-05-10 本发明公开了一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，属于ITO靶材加工技术领域，该离心喷雾造粒工艺包括以下步骤：S1、称取In2O3纳米粉末和SnO2纳米粉末，加入去离子水和分散剂，搅拌均匀，得到浆料；S2、将浆料通过砂磨机球磨，然后加入粘结剂和消泡剂，混合均匀后，得到待造粒浆液；S3、通过风机抽取外界空气，以使空气依次经过滤器、加热器和集气管后通过造粒用的罐体内的布气管排入罐体，直至罐体内布满温度为130‑240℃的热气；将待造粒浆液通过进料管输送，以使待造粒浆液通过雾化器雾化后喷入罐体，从而得到所需造粒粉。本发明解决了ITO靶材喷雾干燥过程中，雾状原料干燥速率较慢的问题。 专利权的授权
一种ITO颗粒的气氛烧结方法 CN202110242931.2 2022-06-07 本发明公开了一种ITO颗粒的气氛烧结方法，属于ITO靶材加工技术领域，该气氛烧结方法包括以下步骤：S1、ITO素坯的制备：将In2O3粉末和SnO2粉末混合均匀，得到原料粉末，在所述原料粉末中加入粘合剂，混合均匀后喷雾造粒，然后将其装填到模具中，经模压处理及冷等静压处理后，得到ITO素坯；S2、ITO靶材的制备：将上述ITO素坯进行脱脂和抽真空处理，然后在所述ITO素坯孔隙中充入氧气，以使所述ITO素坯在常压、纯氧气氛条件及1500‑1620℃温度下烧结5‑12h，制得ITO靶材。本发明解决了传统ITO靶材气氛烧结工艺制造得到的ITO靶材密度较低的问题。 专利权的授权
一种高密度ITO靶材的常压烧结方法 CN202110242920.4 2022-09-09 本发明公开了一种高密度ITO靶材的常压烧结方法，属于ITO靶材加工技术领域，该常压烧结方法包括以下步骤：S1、ITO平面素坯的放置：将ITO平面素坯置于烧结炉内的支撑装置上，以使支撑装置放置面上放置有多个ITO平面素坯，相邻ITO平面素坯通过放置面上的限位柱隔开；S2、ITO靶材的烧结：在常压氧气氛条件下，通过烧结炉对支撑装置上的ITO平面素坯进行烧结，ITO平面素坯采用分段式烧结。本发明解决了传统ITO靶材常压烧结工艺制造得到的ITO靶材密度较低的问题。 专利权的授权
一种低温制备纳米ITO粉末的方法 CN202110141350.X 2022-12-02 本发明公开了一种低温制备纳米ITO粉末的方法，属于纳米ITO粉末加工技术领域，该方法包括以下步骤：S1、王水溶液的配制：将浓盐酸和浓硝酸按容积比l:3配成王水溶液；S2、溶解、混合：取40ml王水溶液，然后称取10‑20g金属铟和3‑5g四氯化锡使其依次溶于王水溶液中，搅拌均匀后，备用，得到混合物；S3、共沉淀：在搅拌下，将氢氧化钠溶液加入到步骤S2得到的混合物中，两者共沉淀后，得到氢氧化铟和氢氧化锡的胶体前驱物；S4、过滤、洗涤：用蒸馏水洗涤步骤S3得到的胶体前驱物2‑4次，得到铟锡氢氧化物；S5、反应。本发明解决了现有水热法制备工艺对设备耐温能力要求高的问题。 专利权的授权
一种基于冷等静压的靶材成型压制方法 CN202110141348.2 2022-12-02 本发明公开了一种基于冷等静压的靶材成型压制方法，属于ITO靶材加工技术领域，该方法包括以下步骤：S1、ITO纳米粉的制备：在300℃以下的温度下，制得ITO纳米粉；S2、实心粉料的制备：将ITO纳米粉装入模具中，加压；然后从模具中取出ITO纳米粉，粉碎后过筛，形成ITO实心粉料；S3、ITO管状素坯的制备：将ITO实心粉料装入管状柔性模具中，经冷等静压制成ITO管状素坯；S4、ITO旋转靶材的制备：将ITO管状素坯放入氧气氛烧结炉中，通入氧气，保温烧结制成ITO旋转靶材。本发明解决了经冷等静压成型的ITO旋转靶素坯在成型、运输、加工等过程中容易出现开裂的问题。 专利权的授权
一种环保高效ITO靶材的制备方法 CN202011477287.9 - 本发明公开了一种环保高效ITO靶材的制备方法，包括以下步骤：S1、用等离子弧熔融In‑Sn合金，之后将处于熔融态的金属在等离子发生室内的含氧40％vol的气流中氧化，并使所获得的反应产物在气流中强烈冷却制得原料粉末；S2、将原料粉末、离子交换水、氧化锆装入球磨罐中，球磨混合；S3、加入分散剂继续混合；S4、加入蜡基粘结剂继续混合；S5、将所构成的磨浆注入到过滤式成形模内制作成形体；S6、将此成形体进行干燥脱脂；S7、将干燥脱脂后的成形体送入烧结炉内烧结，制得靶材。本发明具备易脱模，且可提高靶材的相对密度，进而增加靶材的良品率，降低生产成本的优点。   专利申请的驳回