专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种用于提高电容式微机械传感器温度稳定性的方法及微机械传感器 CN201210398460.5 2015-06-17 本发明公开了一种用于提高电容式微机械传感器温度稳定性的方法及微机械传感器，该方法为：直接将电容式微机械传感器中敏感结构的输出接口电容与电荷放大器的负输入端相连，并在电容式微机械传感器中制作固定电容作为电荷放大器的反馈电容。该微机械传感器可以为三明治结构的微加速度计、扭摆式微加速度计、或微机械陀螺结构，其均是通过内置电容电极和内置电容极板构成电荷放大器的内置电容。本发明可以提高微加速度传感器的输出电容与信号检测电路中电荷放大器积分电容与敏感结构接口电容的温度特性的一致性，进而提高微加速度计的整体性能。 专利权的许可
用于微机械陀螺的正交误差处理方法及装置 CN201210057358.9 2014-09-17 本发明公开了一种用于微机械陀螺的正交误差处理方法及装置，方法步骤如下：1)对微机械陀螺施加驱动载波信号和检测载波信号；2)获取微机械陀螺的输出信号并分别进行一次解调获得驱动信号和检测信号；3)调整驱动信号的放大增益，将放大后的驱动信号和检测信号进行减法运算后输出，同时提取所述减法运算输出信号的幅值模拟量，根据所述幅值模拟量闭环调整驱动信号的放大增益；装置包括同步解调单元、自动增益控制模块、减法器和输出幅值获取单元，输出幅值获取单元的输入端与减法器的输出端相连、输出端与自动增益控制模块的控制端相连。本发明能够精确消除正交误差、提高微机械陀螺输出性能，具有体积小、重量低、成本低、功耗小的优点。 专利权的许可
硅微机械结构的预埋掩模湿法腐蚀工艺 CN201110232452.9 2014-02-19 本发明公开了一种硅微机械结构的预埋掩模湿法腐蚀工艺，包括制备二氧化硅薄膜层、制备掩模图形（初始掩模图形和预埋掩模图形）、初次湿法腐蚀、开启预埋掩模图形和再次湿法腐蚀等工艺步骤，本发明能够将一套掩模图形存储在硅片表面的掩模层上，并能够在各向异性湿法腐蚀过程中随时调取该掩模图形，从而避免了对已腐蚀硅片进行涂胶和光刻工艺面临的难题，提供了一种在硅片上制作多层微机械结构的新方法。 专利权的许可
一种多边形截面硅梁的湿法腐蚀制备工艺 CN201110220751.0 2014-12-10 本发明公开了一种多边形截面硅梁的湿法腐蚀制备工艺，包括以下步骤：首先制备硅梁斜面；然后在形成硅梁斜面的硅片的正面生成晶棱保护层以保护硅梁斜面，尤其是保护晶棱；最后硅梁成型；作为一个总的发明构思，本发明还公开了一种多边形截面硅梁的湿法腐蚀制备工艺，包括以下步骤：首先制备硅梁斜面；然后在形成硅梁斜面的硅片的正面和反面均生成晶棱保护层以保护硅梁斜面，尤其是保护晶棱；最后硅梁成型；本发明的多边形截面硅梁湿法腐蚀制备工艺，通过在硅片表面生成晶棱侧蚀保护层，能有效抑制湿法腐蚀过程中晶棱削角，使硅梁的晶棱完整保留，提高了硅梁的力学性能；同时制备工艺操作简单，成本低廉。 专利权的许可
带有热应力释放结构的键合晶圆及激光划片工艺 CN201110148611.7 2014-09-17 本发明了公开了一种带有热应力释放结构的键合晶圆，包括相互贴合的玻璃晶圆和硅片晶圆，键合晶圆的键合接触面附近开设有用于激光划片的热应力释放结构，热应力释放结构沿拟定的激光划片轨迹对应设置；本发明的键合晶圆的应力释放结构可防止划片轨迹附近原来键合的区域裂开，可提高键合晶圆的激光划片成品率，降低划片成本；本发明还公开了一种激光划片工艺，包括加工热应力释放结构、键合晶圆和激光划片加工等工艺步骤；本发明的激光划片工艺，能有效释放激光划片过程中的热应力，从而抑制键合接触面的热致裂痕，使键合接触面的力学性能得到大幅提高，有利于MEMS芯片性能的提升，同时工艺简单成熟，能够保证较低的成本和较高的成品率。 专利权的许可
一种角振动硅微陀螺及其制作方法 CN200810143291.4 2010-12-22 一种角振动硅微陀螺及其制作方法，它包括通过键合连接的第一基板和第二基板，所述第二基板上中心处设有呈“十“字形的主悬挂梁，主悬挂梁的两侧分别通过“T”形梁组件与质量块相连，每个“T”形梁组件的两端分别对称布置有一个质量块；所述第一基板上开设有凹槽，凹槽内与每个质量块对应的位置处设有一组电极组件。该制作方法主要采用湿法腐蚀工艺制作，制作工艺简单而且成熟，不需要复杂昂贵的深反应离子刻蚀设备，能够保证较低的成本和较高的成品率。因此，本发明是一种结构简单紧凑、成本低廉、制作工艺简单、具有较高品质因子的角振动硅微陀螺及其制作方法。 专利权的许可
一种动磁型永磁电机及控制方法 CN202311613192.9 2024-02-20 本申请适用于直线电机技术领域，提供了一种动磁型永磁电机以及控制方法，本申请结构简单，占用空间小，能适应多样化的工作环境；通过改变第一初级和第二初级内的三相交流电的相序和频率，便能实现次级沿载体的长度方向进行直线运动、绕所述载体进行旋转运动和绕所述载体进行螺旋运动，采用本申请所提供的单个电机便能解决现有技术通过两台直线电机与旋转电机叠加形式存在两台电机的误差累计、低位电机的负载重以及动态响应慢等问题，能适用于半导体加工平台、智能多维系统运动平台、点胶机、微电子光电子封装平台等一系列高端精密工业系统。 专利权的授权
一种两自由度直线电机及其控制方法 CN202311613191.4 - 本申请适用于直线电机技术领域，提供了一种两自由度直线电机及其控制方法，该两自由度直线电机中的第一滑轨和第二滑轨均设置于终端板的同一面，第一滑轨的延长线与第二滑轨的延长线成夹角设置，定子包括两个相对设置的导磁轭板和分别设置在两个导磁轭板的相对内侧的两个沿导磁轭板的长度方向设置的磁铁阵列，动子包括设置于两个磁铁阵列之间的第一线圈和第二线圈，第一线圈的一端通过第一滑块与第一滑轨滑动连接；第二线圈通过第二滑块与第二滑轨滑动连接。本申请能解决两自由度运动时需两台电机叠加使用，体积大、有误差累计且动态响应慢的问题。 实质审查
一种采用T形永磁体的直线旋转音圈电机 CN202211237805.9 2023-05-26 本发明属于电机技术领域，公开了一种采用T形永磁体的直线旋转音圈电机，包括；电机定子，以及位于电机定子外侧的电机动子；采用T形结构的永磁体的直线旋转音圈电机为动磁型结构，可实现高速直线往复运动、360度旋转运动和直线旋转运动，动子仅为两块永磁体、较薄的动子铁轭和两个直线轴承，运动过程不拖动电缆，动态响应速度快，电机结构简洁。通电幅值相同且方向相同，电机做直线运动；通电幅值相同且方向相反，电机做旋转运动；通电幅值不同，电机做直线旋转运动。调整两个线圈的通电方向或大小即可实现直线运动、旋转运动、直线旋转运动的转换，解耦控制方便，极大地提高了电机运行中直线运动、旋转运动和直线旋转运动的精度。 专利权的授权
一种跨轨取料装置 CN202210046454.7 2024-01-12 一种跨轨取料装置，包括安装面板、设置于安装面板输送轨道内的抓取组件、用于驱动抓取组件运动的驱动组件以及设置于两条输送轨道相交处的限位槽内的变轨限位组件。本发明通过在两条输送轨道相交处的限位槽内设置变轨限位组件，实现抓取组件从输送轨道到过渡轨道的行程变轨；两条输送轨道内的抓取组件可交替进入过渡轨道内完成物料的交接，实现物料的跨轨搬运，无需在两条输送轨道之间额外设置转移机构，因此跨轨取料装置的制造成本较低，同时跨轨取料装置整体所占空间也较小。 专利权的授权