专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种适用于大尺寸玻璃的涂胶方法 CN202410939770.6 2024-11-15 本申请涉及图像处理技术领域，具体涉及一种适用于大尺寸玻璃的涂胶方法，该方法包括：获取待涂胶玻璃的点云数据并对轮廓点云数据进行标记；获取目标图像以及预备像素点；对目标图像中所有像素点的像素值分布特征进行分析，构建不平稳区域；由预备像素点与不平稳区域的距离特征，得到区域性非平整特征、起伏重要性权重；构建非平整度影响因子；对涂胶玻璃的边缘特征进行提取，得到特征距离、骨架复杂特征因子，结合非平整度影响因子，获取边缘影响特征因子；对所有预备像素点进行筛选，结合优化算法，获取最终涂胶路径。从而涂胶机器人根据最终涂胶路径可以完成不同形状尺寸的玻璃涂胶，并保证涂胶质量。 授权
基于数据分析的玻璃基板涂胶多点胶厚评估方法 CN202410924051.7 2024-10-29 本发明涉及数据处理技术领域，具体涉及基于数据分析的玻璃基板涂胶多点胶厚评估方法，包括：获取已涂胶玻璃基板表面胶膜的关联数据和对应的白光干涉信号；基于所述关联数据和所述白光干涉信号，构建所述胶膜的上表面的干涉峰峰值位置以及所述胶膜的下表面的干涉峰峰值位置；基于所述上表面的干涉峰峰值位置以及所述下表面的干涉峰峰值位置，确定所述已涂胶玻璃基板表面的胶膜校正厚度；基于所述胶膜校正厚度，对所述已涂胶玻璃基板表面的胶厚进行评估。该方法实现了对下表面与上表面在白光干涉信号中对应的干涉峰峰值位置的分离，实现对已涂胶玻璃基板表面的多点胶厚测量，从而降低多点胶厚测量结果对后续胶厚云图分析涂胶分布流动趋势的影响。 实质审查
一种半导体基底的玻璃基板旋转涂胶方法 CN202410924153.9 2024-09-24 本发明涉及工件表面流体涂布技术领域，具体涉及一种半导体基底的玻璃基板旋转涂胶方法，通过获取每种转速下的涂胶对照样本集；对每种转速下涂胶对照样本的局部像素分布差异，确定每个涂胶对照样本的有效对比特征系数；同时将每个涂胶对照样本划分为同心的各个特征圆环区域，根据各个特征圆环区域之间的像素分布差异，确定每个涂胶对照样本的离心影响特征系数；根据有效对比特征系数和离心影响特征系数，确定均匀度与转速之间的变化曲线，进而结合厚度与转速之间的变化曲线，确定最佳转速，并根据最佳转速进行旋转涂胶。本发明通过有效提高涂胶均匀性，保证了涂胶质量。 专利权的授权
一种玻璃基板涂胶宽度智能检测及反馈调节系统 CN202410924468.3 2024-09-24 本发明涉及基板涂胶宽度测量技术领域，具体涉及一种玻璃基板涂胶宽度智能检测及反馈调节系统。该系统在获得玻璃基板的光谱数据之后根据波段将光谱曲线划分为局部光谱数据，通过获得反射率递减特征序列用于表征局部光谱曲线的变化趋势，进一步获得反射率递减一致性，根据反射率递减一致性筛选出用于涂胶宽度分析的目标波段，进而检测出准确的涂胶宽度，并且基于涂胶宽度确定涂胶位置以及涂胶截面积，将涂胶位置和涂胶截面积作为涂胶状态信息即可反馈至涂胶装置，进而进行准确调节。本发明通过对波段进行有效的筛选，避免环境噪声的影响，进而获得准确的涂胶宽度并对涂胶装置进行反馈调节。 专利权的授权
一种异型玻璃基板涂胶机优化控制方法及系统 CN202410924327.1 2024-09-24 本发明涉及液体涂布数据处理技术领域，具体涉及一种异型玻璃基板涂胶机优化控制方法及系统，该方法包括：获取当前批次的目标异型玻璃基板的目标三维点云数据；基于目标三维点云数据，构建任一数据点的局部涂胶粗糙指数；基于任一数据点的局部涂胶粗糙指数，确定任一数据点所属的涂胶同质区域的涂胶需求指数；基于涂胶同质区域的涂胶需求指数和涂胶同质区域的尺寸信息，确定涂胶同质区域的涂胶需求量；基于涂胶需求量，控制涂胶机对下一批次的异型玻璃基板的涂胶量。该方法实现了对异型玻璃基板的特殊结构涂胶量的准确控制，提高了异型玻璃基板涂胶处理后的粘接强度。 专利权的授权
一种玻璃基板涂胶效果智能检测方法 CN202410924576.0 2024-10-11 本发明涉及涂胶效果检测技术领域，具体涉及一种玻璃基板涂胶效果智能检测方法。方法包括：获取放置在载物台上的玻璃基板的超声扫描图像；结合超声扫描图像中每个扫描点与其邻域内扫描点的灰度差异和每个扫描点的邻域内扫描点的灰度波动特征，确定疑似缺陷区域；对疑似缺陷区域的灰度趋势分布特征进行分析，得到疑似缺陷区域的失衡偏差值；利用疑似缺陷区域内的扫描点与边缘线上的扫描点的灰度差异对失衡偏差值进行调整，获得疑似缺陷区域的载台散射干扰度；基于不同疑似缺陷区域的载台散射干扰度的相似情况以及每个疑似缺陷区域的灰度波动区间，对涂胶效果进行评价。本发明提高了涂胶效果评价结果的准确度。 专利权的授权
一种用于玻璃基板旋转涂胶质量的检测方法 CN202410924452.2 2024-10-11 本发明涉及图像处理技术领域，具体涉及一种用于玻璃基板旋转涂胶质量的检测方法。获取涂胶完成后的玻璃基板的涂胶面图像，确定涂胶面图像中的连通域；对涂胶面图像中点的亮度进行衰减程度分析，确定各点的模糊边缘透光衰减特征值；基于模糊边缘透光衰减特征值对涂胶面图像进行分割，得到模糊缺陷边缘区域；分析模糊缺陷边缘区域内的特征，确定模糊缺陷边缘区域内每个点的模糊缺陷边缘特征，从模糊缺陷边缘区域中获取模糊缺陷边缘点；基于模糊缺陷边缘点为中心，对涂胶面图像进行平滑处理，得到平滑涂胶面图像；对平滑涂胶面图像提取骨架，作为下次涂胶过程定位结果。本发明实施例提高了对玻璃基板进行旋转涂胶完成后的涂胶质量检测的精度。 专利权的授权
一种异形玻璃基板涂胶过程中视觉纠偏方法 CN202410924698.X 2024-11-12 本发明涉及视觉图像处理技术领域，具体涉及一种异形玻璃基板涂胶过程中视觉纠偏方法，包括：获取灰度图像、基板边缘轮廓图像和标准轮廓图像；根据灰度图像中每个像素点与基板边缘之间的分布得到反光模糊程度；获取基板边缘轮廓图像中的轮廓像素点，对轮廓像素点的局部范围内像素点属于骨架部分的特征分布以及每种轮廓像素点分布，结合反光模糊程度确定可信程度；基于基板边缘轮廓图像的骨架中心，结合可信程度确定纠偏修正权重；根据基板边缘轮廓图像与标准轮廓图像的匹配结果中基板边缘轮廓图像的轮廓像素点的位置差异和所述纠偏修正权重，对异形玻璃基板进行纠偏。本发明使得异形玻璃基板的纠偏结果更加准确。 授权
一种用于半导体基底的基板形成方法 CN202410815596.4 2024-09-24 本申请涉及玻璃基板切割控制技术领域，具体涉及一种用于半导体基底的基板形成方法，该方法包括：获取各采集时刻的石英玻璃基板切割样品的石英玻璃基板切割边缘图像以及切割激光移动热源的激光切割参数序列；根据石英玻璃基板切割边缘图像中的灰度分布情况，获得各玻璃基板裂纹区域；根据各玻璃基板裂纹区域与其相邻的玻璃基板裂纹区域之间的空间分布差异，获取边缘崩裂损伤程度；根据所有采样时刻的石英玻璃基板切割样品的边缘崩裂损伤程度对激光切割参数序列进行调控，获得下一个采样时刻的激光切割参数，提高了石英玻璃基板的切割质量。 专利权的授权
多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法和系统 CN202410744951.3 2024-08-06 本发明公开了多层涂胶掩膜板蚀刻线形态图像增强方法和系统，包括：S1：对多层涂胶掩模版图像使用多尺度高斯滤波进行去噪，并使用局部对比度增强和边缘平滑保持方法对去噪后的多层涂胶掩模版图像进行预处理；S2：利用改进的Canny边缘检测方法来识别和定位预处理后的多层涂胶掩模版图像中蚀刻线；S3：使用迭代反投影方法对蚀刻线进行超分辨率处理；S4：使用形态学操作对超分辨率处理后的蚀刻线进行形态优化，所述形态优化包括膨胀和腐蚀操作；S5：将形态优化结果映射到多层涂胶掩模版图像以增强蚀刻线形态。本发明能够增强蚀刻线的可见性、准确性和细节清晰度，以支持高精度制造工艺的需求。 专利权的授权