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一种石英玻璃基板用抛光液及其制备方法与应用 CN202410159462.1 - 本发明公开了一种石英玻璃基板用抛光液及其制备方法与应用。涉及抛光液技术领域。上述抛光液，包括以下组分：粒径为50nm‑1000nm的改性氧化铈；表面活性剂；抛光抑制剂；溶剂；助剂；所述改性氧化铈为经过聚丙烯酸和/或聚乙二醇改性的氧化铈。本发明的抛光液，能够石英基板表面划伤的发生，提高抛光速率，以及提高石英基板抛光后的平坦度。 实质审查
一种单面图形化高低反射膜层及其制备方法和应用 CN202410159543.1 - 本发明公开了一种单面图形化高低反射膜层及其制备方法和应用，属于薄膜技术领域。本发明提供的单面图形化高低反射膜层包括依次叠加设置的：基底层、高反射层、介质层和低反射层；所述高反射层的材质包括铬单质；所述介质层的材质包括氧化硅，所述介质层对光的透过率≥95％；所述低反射层的材质包括氮氧化铬。本发明提供的面图形化高低反射膜层，能够有效提高加工效率和良率，还能保证甚至提升所得单面图形化高低反射膜层的性能。本发明还提供了上述单面图形化高低反射膜层的制备方法和应用。 实质审查
一种连续式磁控溅射镀膜装置 CN202410136488.4 - 本发明涉及镀膜领域，具体涉及一种连续式磁控溅射镀膜装置。其包括机身和设置于机身上的镀膜机构，镀膜机构包括镀膜筒、基片台、溅射靶、挡板组件和传动组件，基片台设置于镀膜筒的内顶部，溅射靶设置于镀膜筒内部且沿镀膜筒的圆周方向均布，挡板组件包括顶部挡板和竖挡板，顶部挡板位于溅射靶上方，竖挡板设置至于相邻两组顶部挡板之间。本发明将每个溅射靶对应的顶部挡板分体为两个扇形板，使用时两个扇形板向两侧打开，保证扇形板的同一面只会溅射同一种靶材，以使同一个溅射靶在使用时其上的靶材总是溅射在相同的扇形板的相同表面，不同溅射靶之间溅射的扇形板的表面不重叠，防止镀膜层受到其他靶材污染，提高镀膜质量。 实质审查
一种掩膜板污渍智能定位方法和系统 CN202311744068.6 2024-02-23 本发明公开了一种掩膜板污渍智能定位方法和系统，包括：S1：使用相机拍摄掩膜板图像，并对掩膜板图像进行增强和归一化处理；S2：基于局部区域和统计特性的边缘检测算法，提取归一化后的掩膜板图像的边缘，获得边缘图像；S3：将归一化后的掩膜板图像与边缘图像输入基于深度学习的污渍智能定位网络，获得污渍的位置和类型；S4：基于随机梯度下降算法优化污渍智能定位网络；S5：基于改进的K均值算法对识别出的每一块污渍所在的位置进行分割，得到污渍像素和背景像素。本发明能够准确、稳定地定位掩膜板上的污渍，从而保证掩膜板在半导体制程中的稳定性和成像质量，推动半导体产业的发展。 专利权的授权
一种基于多模态特征融合的玻璃缺陷检测方法及系统 CN202310964498.2 2023-10-03 本发明公开了一种基于多模态特征融合的玻璃缺陷检测方法及系统，包括：S1：获取玻璃图像，并对其进行均衡化，获得预处理后的玻璃图像；S2：提取预处理后的玻璃图像的边缘特征和深度特征；S3：对提取出的边缘特征和深度特征进行融合，获得融合特征；S4：构建玻璃缺陷检测网络，设定网络的输入、输出以及优化目标；S5：基于改进的梯度下降方法和优化目标训练玻璃缺陷检测网络参数。本发明提供一种高效、准确且自动化的玻璃缺陷检测方法，应用于工业生产中，帮助生产企业提高产品质量和竞争力。 专利权的授权
一种玻璃基板光学性能检测方法和系统 CN202310768590.1 2023-09-12 本发明公开了一种玻璃基板光学性能检测方法和系统，包括：S1：采集玻璃基板表面图像，对图像进行灰度化和滤波，获得预处理后的玻璃基板表面图像；S2：基于玻璃基板表面图像的灰度化图像评估玻璃基板的粗糙度；S3：利用图像分割对预处理后的玻璃基板表面图像进行气泡检测；S4：采集玻璃基板入射光和透射光图像，计算玻璃基板的透光率；S5：将预处理后的玻璃基板表面图像以及S2至S4中的检测结果输入光学性能检测网络对玻璃基板进行评级。本发明将图像处理与机器学习相融合，从而自动检测玻璃基板表面质量与光学性能，并给出统一评级。 专利权的授权
一种玻璃基板平整度评估方法和系统 CN202310505983.3 2023-08-01 本发明公开了一种玻璃基板平整度评估方法和系统，包括：S1：采集玻璃基板表面高度图像，并对图像去噪，得到去噪后的玻璃基板表面高度图像；对去噪后的玻璃基板表面高度图像进行分割，并提取属于玻璃基板区域的像素，将玻璃基板从图像中分割出来；从分割出来的玻璃基板区域提取特征，所述特征包括弯曲度、扭曲度和球面度；基于离散傅里叶变换对分割出的玻璃基板区域进行低通滤波，获得平滑后的玻璃基板表面高度图像，计算其平均值、方差、偏度、峰度信息；将S3和S4中得到的结果与标准玻璃基板进行对比，评估玻璃基板平整度。通过采用数字图像处理和数学分析的方法，实现自动化的玻璃基板平整度评估，提高测量效率和评估准确性。 专利权的授权
一种玻璃基板气泡缺陷的识别系统 CN202310203424.7 2023-06-06 本发明涉及智能制造领域，具体涉及一种玻璃基板气泡缺陷的识别系统。该系统针对当前玻璃基板加工工艺中容易出现的气泡缺陷，本发明提出了以显微镜相机获取高分辨率的玻璃基板图像，并定义了玻璃基板的气泡缺陷及判断方法，在获取玻璃基板轮廓特征的基础上，实现了对玻璃基板气泡缺陷的自动化识别。相比于传统的轮廓检测算法，本发明改进后的轮廓提取算法对显微镜相机获取的高分辨率玻璃基板图像有着更好的特征提取效果；相比于传统霍夫检测算法，本发明提出的玻璃基板气泡缺陷的判断方法计算量及内存使用量更小，计算速度更快。 专利权的授权
玻璃基片综合清洗系统 CN202211561339.X 2024-09-10 本发明公开了一种玻璃基片综合清洗系统，包括脱水箱、脱水盖、清洗箱和漂洗箱，所述脱水盖位于脱水箱、清洗箱和漂洗箱的上方，所述清洗箱、漂洗箱和脱水箱的内部均设置箱夹持件，所述箱夹持件上设置夹持传送带，所述脱水盖上固定设置工作台，所述工作台上设置用于夹持玻璃基片的盖夹持件，所述盖夹持件的位置与箱夹持件的位置对应，所述盖夹持件的上方设置IPA气体喷嘴，盖夹持件的两侧分别设置约束板，本发明中的玻璃基片综合清洗系统用于光掩膜版的玻璃基片的清洗，在清洗后完成慢提拉脱水，在基片两侧设置约束板形成竖向张力梯度通道，保持稳定的水回流，减少张力不稳定导致的梯度断裂，减少基片表面水痕的产生。 专利权的授权
光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统 CN202211419694.3 - 本发明公开了一种光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统，包括中心定位套、两个修平主体、定位组件、定位板、反射件和平衡板，所述中心定位套与修平主体之间设置活动缸，所述定位板位于中心定位套的球面槽内部，平衡板与定位板连接，所述修平主体包括修平板、接触板和定位套，所述接触板与定位套活动连接，接触板内部的感应板的位置与平衡板的位置对应，接触板的上端还设置若干接触杆，本发明中的光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统可固定于抛光磨盘上，对抛光磨盘自动进行修平操作，并在修平过程中进行平面度检测，保证抛光磨盘的平面度，同时可实现了抛光面与抛光磨盘转轴的垂直定位。 实质审查