专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
玻璃基片平面研磨设备找平方法及其找平装置 CN202211427175.1 - 本发明公开了一种玻璃基片平面研磨设备找平方法及其找平装置，其中找平方法包括以下步骤：S1，获得与研磨盘转轴垂直的平衡板；S2，获得接触端与修平板的修平面处于同一平面的接触杆若干；S3，保证修平板与平衡板处于平行状态；S4，修平板对研磨盘转进行修平工作，当所有接触端点具有研磨盘施加的接触压力，则研磨盘的找平工作完成，本发明中通过该找平方法及其找平装置，实现玻璃基片研磨盘的自动找平，提高找平效率，同时在找平中，实现研磨盘与研磨盘的转轴垂直，有助于研磨设备整体形成对玻璃基片长期稳定的平面加工。 实质审查
一种光栅制作方法及光栅 CN202210751803.5 2024-05-31 本发明公开了一种光栅制作方法及光栅，光栅制作方法包括：在平面基板上制作微纳高精图形，微纳高精图形具有异构图形加工定位标志；在微纳高精图形上设置保护层；基于异构图形加工定位标志对平面基板的下表面进行加工，以在平面基板的下表面形成凹陷状的异形结构；对形成异形结构的平面基板的下表面进行抛光；去除保护层，并对平面基板进行清洗。微纳高精图形中预置了异构图形加工定位标志，从而便于后续利用寻迹设备来检测异构图形加工定位标志的位置，使得后续加工设备可以根据寻迹的结果完成对平面基板的异形结构的加工；同时，在微纳图形上会覆盖一层保护层，有效的保护微纳高精图形加工中不会受到污染。 专利权的授权
一种玻璃基板的检测方法、装置、电子设备及存储介质 CN202111159442.7 - 本发明提供一种玻璃基板的检测方法及系统，方法包括：获取待检测玻璃基板的第一光图以及第二光图；将所述第一光图与所述第二光图进行融合，得到融合光图；通过预先训练好的缺陷检测网络对所述融合光图进行缺陷检测，输出得到所述待检测玻璃基板的检测结果。能够在待检测玻璃基板的第一光图以及第二光图的基础上进行融合，得到待检测玻璃基板的融合光图，再通过图像检测技术对融合光图进行检测，得到待检测玻璃基板的检测结果，可以提高玻璃基板的检测准确率。 实质审查
一种玻璃码盘的制作方法、玻璃码盘以及装置 CN202111158161.X 2023-07-14 本发明提供一种玻璃码盘的制作方法、玻璃码盘以及装置，方法包括：获取玻璃码盘的环境参数，所述环境参数根据所述玻璃码盘的使用环境进行确定；根据玻璃基板的参数以及所述环境参数，计算所述玻璃基板的易碎点，所述玻璃基板为所述玻璃码盘的基板；基于所述玻璃基板的易碎点，对所述玻璃码盘的掩膜图案进行设计，以得到漏光刻度避开所述玻璃码盘的易碎点的目标掩膜图案；通过所述目标掩膜图案对镀铬后的玻璃基板进行腐蚀，得到玻璃码盘。能够根据玻璃码盘的环境参数以及玻璃基板的参数，对应设计出在玻璃码盘的使用环境下，易碎点被镀铬层遮挡的玻璃码盘，通过镀铬图像保护玻璃码盘的易碎点，减小玻璃码盘的破碎概率。 专利权的授权
一种电磁屏蔽网格的制备方法及电磁屏蔽薄膜 CN202111146692.7 2024-12-03 本发明提供了一种电磁屏蔽网格的制备方法及电磁屏蔽薄膜，所述电磁屏蔽网格的制备方法包括步骤：在透明衬底一侧的表面涂覆光刻胶；通过曝光以及显影在所述光刻胶的表面形成图案；在形成所述图案后的所述光刻胶的表面蒸镀金属层；将蒸镀所述金属层后的所述透明衬底浸泡于N‑甲基吡咯烷酮溶液，以去除所述光刻胶表面的所述金属层，保留所述图案表面上的所述金属层，从而得到预制电磁屏蔽网格；通过脉冲电镀在所述预制电磁屏蔽层的表面电沉积Au，从而得到电磁屏蔽网格。本发明得到电磁屏蔽网格，可以使形成的图案的效果更好，且提升整体的导电性能，以更好的满足电子设备的屏蔽需求。 授权
一种铬版湿法清洗工艺干燥用异丙醇蒸汽回流装置 CN202110707598.8 2022-05-17 本发明涉及一种铬版湿法清洗工艺干燥用异丙醇蒸汽回流装置，包括蒸汽干燥槽体与加热板，所述加热板安装于蒸汽干燥槽体的底部，所述蒸汽干燥槽体的顶部开设有矩形开口，矩形开口长边所对应的两侧壁内设有进气腔，进气腔的下端设有通孔与蒸汽干燥槽体内腔相通，进气腔靠近蒸汽干燥槽体内腔的侧壁上端安装有第一中空冷凝板，所述第一中空冷凝板的上下两端分别设有第一排水管与第一进水管，所述第一进水管与第一排水管均贯穿蒸汽干燥槽体侧壁，所述第一排水管的侧壁上设有负压支管；本发明提供的铬版湿法清洗工艺干燥用异丙醇蒸汽回流装置能够实现半导体基片干燥过程中IPA蒸汽的循环利用，减少IPA的损耗，具有客观的经济效益，适宜进一步推广应用。 专利权的授权
一种漫反射型标定板及其制备方法 CN202010347388.8 2023-12-19 本发明公开了一种漫反射型标定板的制备方法，包括以下步骤：使用20%‑60%DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10‑40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面或平面；在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形，依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀，制得金属铬层；进行精密切割，尺寸精度为±0.05mm，本发明还公开了利用该方法制得的标定板，本发明采用研磨工艺制作磨砂效果，满足高平面度要求，砂粒精细并可控，反射率小于0.1%。 专利权的授权
一种掩膜版的缺陷修复方法 CN202010343558.5 2023-07-25 本发明涉及一种掩膜版的缺陷修复方法，提供掩膜版；于显微镜下寻找所述掩膜版上的缺陷，再在缺陷周围形成非水溶性涂料圈；向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加水系去胶液，去除非水溶性涂料圈所围区域的光刻胶，然后去除非水溶性涂料圈内的水系去胶液；向所述非水溶性涂料圈所围成的区域滴加铬腐蚀液，修复缺陷；将修复缺陷后的掩膜版置于去胶液中去除版面的光刻胶；去除版面的非水溶性涂料圈；对掩膜版进行清洗，获得修复后的掩膜版。本发明的修复方法，无需二次匀胶光刻去除缺陷，在检验缺陷的同时用非水溶性涂料圈出缺陷，将所有缺陷标识出，同时去胶后去残铬，该方法简单易操作，降低掩膜版的制造成本，提高良率及利用率，提高经济效益。 专利权的授权
一种基片清洗支撑结构 CN202010338211.1 - 本发明公开了一种基片清洗支撑结构，包括支架和多组固定机构组，支架的中心位置开设有用于与旋转驱动机构相连的竖向轴孔，支架的顶部沿径向具有多个呈阶梯状逐级升高的台阶部，台阶部与固定机构组一一对应，固定机构组可拆卸安装于相应的台阶部上，不同台阶部上的固定机构组用于固定不同规格的基片，基片通过固定机构组支撑于相应台阶部的上方；相邻台阶部的高度差使得上一级台阶部上的基片位于下一级台阶部上的固定机构组和基片的上方。由此，只需将待清洗的各尺寸的匀胶铬版通过相应的固定机构组固定于支架相应的台阶部上方，即可进行多个品种的匀胶铬版的同时清洗。   专利申请的驳回
一种光学玻璃零件的制作方法 CN202010242422.5 - 本发明涉及一种光学玻璃零件的制作方法，包括如下步骤：提供光学玻璃；对光学玻璃进行清洗；在光学玻璃的表面涂覆保护层，静置，硬化；对光学玻璃进行激光切割，获得光学玻璃零件粗坯；对光学玻璃零件粗坯进行边棱打磨加工后，去除保护层，获得光学玻璃零件。本发明中，通过保护层的液态可流动性，可使得涂覆保护层的光学玻璃在激光切割过程中保护层可延着切割轨迹同玻璃零件尺寸外形保持一致，在完成切割加工后的光学玻璃零件在进行边棱打磨加工时，可随玻璃边棱磨削时同轨迹去除，在边棱打磨时不脱膜不溶于水，实现光学玻璃大版转换成光学玻璃小零件的全制程保护，有利于获得质量更高的光学玻璃零件；另外，保护层易去除，不残留，可操作性强。   专利申请的撤回