专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种透明导电薄膜结构及其制作方法 CN202010243190.5 2023-01-31 本发明涉及一种透明导电薄膜结构及其制作方法，所述透明导电薄膜结构具有基板和金属网格；包括如下步骤：提供由玻璃或石英制成的基板；在所述基板的至少1个表面镀金属氧化物层；在所述金属氧化物层的表面制作光刻胶层，然后对光刻胶层进行刻蚀处理，使得光刻胶层内形成与所述金属网格匹配的凹槽；以所述金属氧化物层为阴极，镀层金属为阳极，电镀，在金属氧化物层的表面形成金属网格；然后，去除剩余的光刻胶层，获得透明导电薄膜结构成品。本发明的工艺简单，无需金属纳米粒子等电镀阴极材料，适合工业化生产，可以基于金属氧化物和金属网格得到更加优化的透明导电薄膜结构。 专利权的授权
一种银的细微图形化蚀刻方法 CN202010242731.2 2023-08-29 本发明公开了一种银的细微图形化蚀刻方法，包括抛光、清洁、镀氧化膜/银、旋涂光刻胶、分别用第1道的银蚀刻液和第2道银蚀刻液进行蚀刻、经去胶液清洗得到Ag金属网格。本发明工艺简单，可以得到线径小于5um的银图案，对银的蚀刻均匀，图形化线性度高，所得银金属网格附着好，网格不易发生漂移。 专利权的授权
一种陶瓷标定板基板的制造方法 CN202010050048.9 2023-05-02 本发明涉及一种陶瓷标定板基板的制造方法，包括如下步骤：提供陶瓷基板，抛光，洗净，备用；在陶瓷基板的至少1个表面镀一层金属薄膜，在所述金属薄膜的表面制作光刻胶层；对陶瓷基板依次进行曝光、显影、蚀刻、去胶处理后，将陶瓷基板置于20‑45℃的强碱溶液中浸泡1‑15min，清洗，干燥后，获得陶瓷标定板基板。本发明的陶瓷标定板基板的图案精度高，标定图案和陶瓷基板的颜色对比度高。 专利权的授权
一种反射型分划板及其制作方法 CN201811552972.6 - 本发明涉及一种反射型分划板及其制作方法，该分划板包括基底层（1）和图案层（2），所述基底层（1）具有第一表面和与第一表面相对设置的第二表面，其特征在于，所述第一表面设有反射层（3），所述反射层（3）上设有透明的保护层（4），保护层（4）的厚度为50‑500nm，所述图案层（2）设于保护层（4）外表面上或基底层的第二表面上。本发明分划板的反射层的反射率＞95%，图案层的反射率可低至0.1%，光在照射时，通过反射与吸收作用，可在目标位置获得高对比度的图像。 专利申请的驳回
一种一体化分划板及其制作方法 CN201811549308.6 - 本发明涉及一种一体化分划板及其制作方法，该分划板包括基体层，所述基体层具有第一表面和与第一表面相对设置的第二表面；所述第二表面包括第一区域和围绕于第一区域外且与第一区域邻接的第二区域，所述第二区域为曲面状，第一区域表面设有第一遮光层；第一区域所对应的第一表面区域设有第二遮光层，第二区域所对应的第一表面区域设有分划层。本发明的一体化分划板在用于制作光学镜头、瞄准镜等光学器件时，可节约空间，同时也可使得光学镜头、瞄准镜等光学器件的制作过程简化、方便；另外，与传统平面分划板和透镜的组合方式相比，该平面和透镜一体的分划板，省去了平面分划板与透镜之间的空隙，在使用过程中光没的损失减少，可提升成像质量。 专利申请的驳回
一种透镜分划板及其制作方法 CN201811552975.X 2021-08-20 本发明涉及一种透镜分划板及其制作方法，该透镜分划板包括透明基体，所述基体具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，所述基体为透镜状，第一表面设有分划图形层。光通过本发明的透镜分划板时，可以很好的进行光聚合和发散，利用透镜成像原理进行图形的放大或缩小，如此，可简化相关光学器械结构，减少单个透镜的安装。 专利权的授权
一种应用于玻璃转运机构的真空吸附装置 CN201810562538.X 2021-03-30 本发明属于玻璃加工设备技术领域，具体涉及一种应用于玻璃转运机构的真空吸附装置。包括呈喇叭口状的真空吸盘，真空吸盘的上端连接下气腔，下气腔连通上方的真空气道，真空气道上方连通上气腔，真空气道中设置推拉活塞，推拉活塞包括通过连接杆固定连接的第一活塞和第二活塞，第一活塞位于下气腔内，第二活塞位于上气腔内，第二活塞上端连接垂直连杆，垂直连杆的上端包括连接环，连接环套接在曲轴的连杆颈上，曲轴的主轴颈与步进电机连接；真空气道侧壁设有气流通孔，气流通孔通过气管与真空气泵连通。该装置使用活塞和曲轴连杆结构替代真空气阀使用，降低了零件的损耗，使得真空吸附装置的维护成本得到大大降低。   专利权的授权
一种高反射分划板及其制作方法 CN201711438522.X - 本发明公开了一种高反射分划板及制备方法，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成。本发明的有益效果：本发明提供一种高反射分划板及其制作方法采用磁控溅射技术形成银，得到的双面高反射银膜，在保证膜层达到了双面高反射率的同时，增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力。 专利申请的驳回
一种分划板及其制作方法 CN201711438510.7 - 本发明公开了一种分划板，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；增透层，所述增透层设于所述第一表面和/或第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面一侧，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述分划线反射率不小于95%，设有增透层的所述承载体整体透过率不小于95%。一种分划板采用磁控溅射技术形成银，得到的双面银膜，在保证膜层达到了双面高反射率的同时，增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力，在承载体表面设有增透层，这样使的透过率大于等于95%，而分划线使用的材料银的反射率大于等于95%，高的对比度，这样使的分划线更加清晰。 专利申请的驳回
一种分划板及其制作方法 CN201610773706.0 - 本发明公开了一种分划板及其制作方法，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%。本发明提供一种分划板及其制作方法采用磁控溅射技术形成银，得到的双面高反射银膜，在保证膜层达到了双面高反射率的同时，增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力；在银基分划板上，采用蒸镀或磁控溅射技术镀制一层具有一定厚度的SiO2膜，增强了银基分划板的耐磨性和抗氧化能力，同时没有降低银膜双面的高反射率，避免了存放周期短的缺点。 专利申请的驳回