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磁控下溅射镀膜机 CN202011194840.8 - 本发明公开一种磁控下溅射镀膜机，磁控下溅射镀膜机包括安装支架、溅射阴极以安装架，所述安装架设置在所述安装支架内部上方，所述溅射阴极设置在所述安装支架内部并位于所述安装架的下方，所述安装架用于安装工件，所述安装架能够带动所述工件旋转。本发明提供了一种从工件下方进行溅射镀膜的镀膜机，有效解决了现有的镀膜机占用空间较大的问题。   专利申请的驳回
应用于狭窄空间的三室镀膜机 CN202011188916.6 2022-06-28 本发明公开一种应用于狭窄空间的三室镀膜机，应用于狭窄空间的三室镀膜机包括第一流转平台、第一处理室、镀膜室、第二处理室、第二流转平台、连接平台以及多个承载架，所述镀膜室的两侧分别与所述第一处理室和所述第二处理室连通，所述第一处理室远离所述镀膜室的一侧与所述第一流转平台连通，所述第二处理室远离所述镀膜室的一侧与所述第二流转平台连通，所述连接平台的一端与所述第一流转平台相连通，所述连接平台的另一端与所述第二流转平台相连通，以使所述第一流转平台、连接平台以及第二流转平台呈U型，所述承载架用于承载工件在所述镀膜机内流转。本发明提供了一种适用于狭窄空间使用的三室镀膜机。 专利权的授权
多室连续光学镀膜机 CN202010714409.5 2022-10-18 本发明公开了一种多室连续光学镀膜机，所述镀膜机包括运转机构、至少一个传送部、至少一个前室，以及至少一个镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述前室和镀膜室为单独的密封腔室，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动。本发明提供多室连续光学镀膜机，提高了镀膜效率，节约能源，并且镀膜后镀件的膜厚均匀。 专利权的授权
渐变色镀膜机的镀膜质量控制方法 CN201911278479.4 - 本发明公开了一种渐变色镀膜机的镀膜质量控制方法，镀膜机设有膜厚仪，所述膜厚仪包括晶振探头和膜厚控制仪主机，晶振探头固定在工件转架的侧面，所述膜厚仪实时监测膜厚，每层镀膜后，如果膜厚仪检测到膜厚小于预设膜厚，则继续进行同色系溅射；如果膜厚仪检测出膜厚在预设膜厚的范围内，则进行下一层的镀膜。本发明提供渐变色镀膜机的镀膜质量控制方法，更精确的监测膜厚，并且实时反馈检测数据，进行随时修正，提高镀膜的质量。   专利申请的驳回
溅射镀膜机膜厚监测方法 CN201911279153.3 - 本发明提供了溅射镀膜机膜厚监测方法，包括：步骤S1：将接收端安装在镀膜室的壳体壁上，定位端安装在基片架上，使定位端和基片所在的平面平齐；步骤S2：将感应器安装在镀膜室的壳体壁上，所述感应器的感应端口正对基片；步骤S3：将感应器和接收端电连接，感应器和控制端电连接；步骤S4：镀膜前定位初始距离值s0；步骤S5：启动镀膜工序，基片架旋转，当定位端和接收端连通时获得实时距离st，膜厚s＝st‑s0。本发明可实时监测旋转基片的镀膜厚度，接收端、定位端和感应器的布置准确定位测量点，过滤掉获取无用的数据，降低了后续数据的工作量和难度。 专利申请的撤回
一种镀膜机自动控制膜厚度的方法 CN201911276384.9 - 本发明公开了一种镀膜机自动控制膜厚度的方法，所述的方法包括：步骤a)待镀膜基片通过基片架传输至真空镀膜室，启动真空泵直至真空镀膜室内真空度达2.65×10‑3MPa；步骤b)厚度传感器初测原始基片厚度后向数据处理器发送初始数据，开启基片架旋转开关，开启离子泵电源，开始进行磁控溅射镀膜；步骤c)厚度传感器实时检测基片镀膜时的厚度变化值，并将变化值发送至数据处理器；步骤d)所述数据处理器记录基片的实时厚度数据，控制离子源电源的启停；步骤e)关闭真空泵，启动镀膜下一工序。本发明提供镀膜机自动控制膜厚度的方法，可通过实时检测溅射过程中的膜厚度，再通过控制系统控制镀膜机启停，从而达到自动控制膜厚度的目的。   专利申请的驳回
磁控溅射镀膜机 CN201911276412.7 - 本发明提供了磁控溅射镀膜机，包括依次连接的第一预备组、工艺室组和第二预备组，第一预备组、工艺室组和第二预备组依次连接成直线型的基片运行路径，所述运行路径的运行方向为基片依次经过第一预备组、工艺室组和第二预备组，工艺室组包括多个工艺室，第一预备组包括多个功能室，沿着所述运行路径的方向，第一预备组的多个功能室的容积逐渐增大，第二预备组包括多个功能室，沿着所述运行路径的方向，第二预备组的多个功能室的容积逐渐减小。本发明低了抽真空能耗，降低了所述镀膜机的加工成本，适应了基片架的运行需求，将所述流水线型的长条形的镀膜机的各个侧面进行功能分区，便于操作和检修，提高了标准化程度。 专利申请的撤回
双室真空镀膜机 CN201911277135.1 - 本发明提供了双室真空镀膜机，包括缓冲室和工艺室，缓冲室和工艺室可连通的设置，工艺室内设置两组基片架固定件和一组压紧件，两组基片架固定件间隔位于工艺室的底部，压紧件位于工艺室的顶部，基片架在工艺室时，位于两组基片架固定件之间，基片架固定件接触并卡紧基片架的底部，压紧件接触并压紧基片架，缓冲室包括第一缓冲室和第二缓冲室，第一缓冲室、第二缓冲室和工艺室依次连通，基片架的进口和出口均设置在第一缓冲室上。本发明工艺室内两个基片架固定件和压紧件固定了基片架，防止其在溅射镀膜过程中发生沿着溅射粒子飞溅方向的晃动，使溅射沉积更均匀。 专利申请的撤回
用于镀膜室的旋转台 CN201911275823.4 - 本发明公开了用于镀膜室的旋转台，包括位于镀膜室内的若干旋转基片架，所述旋转基片架包括基架体、转动轴和轴承座，所述转动轴贯穿于基架体中心轴，所述转动轴通过轴承与轴承座连接。与现有技术相比，本发明提供的用于镀膜室的旋转台通过转动轴与基架体一体成型的设置，使旋转基片架转动时不易滑脱，可高效转动基片架。通过设置转动轴以代替齿轮结构进行旋转，可有效避免镀膜室内的扬尘，提高镀膜质量。 专利申请的撤回
渐变色镀膜一体机 CN201911271595.3 - 本发明公开了渐变色镀膜一体机，包括一一体机箱，所述一体机箱由四面侧板、顶盖和封闭连接的底板构成，所述一体机箱内设有一自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架、轨道和离子源在线清洗装置，所述自转磁棒、防护组件、靶材组件和旋转基片架同圆心的设置，所述轨道一端设于一体机箱的边缘，另一端延伸至自转磁棒外，所述离子源在线清洗装置在轨道上滑行。与现有技术相比，本发明提供的渐变色镀膜一体机首创性的采用了离子源的磁棒自转配合基片架的旋转，在基片进行渐变色镀膜时，可根据不同需求，通过将可拆卸的防护组件对靶材组件进行防护，有选择的选取不同的靶材区，从而达到对不同渐变色的镀膜要求。 专利申请的撤回