专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种带有防护装置的离子源 CN201911270459.2 - 本发明公开了一种带有防护装置的离子源，包括一自转磁棒、防护组件和靶材组件，所述自转磁棒呈圆柱形，所述防护组件和靶材组件呈圆弧状或圆环状，所述防护组件包括两防护元件，所述防护元件通过连接件活动连接，所述两防护元件的两边相互两两连接。与现有技术相比，本发明提供的一种带有防护装置的离子源通过一个旋转机构实现了磁棒的自转，从而实现离子源的自转。通过设置七块靶材，人为将七块靶材分为两部分，每部分靶材的相邻靶材溅射后为渐进的颜色，自转磁棒旋转时，通过安装及拆卸下对应的防护元件，可自由溅射不同渐变色系的基片。 专利申请的撤回
立式镀膜机的旋转系统 CN201911270385.2 - 本发明公开了立式镀膜机的旋转系统，包括一旋转基片架，和自旋转基片架圆心处由内至外设置的自转磁棒、防护组件和靶材组件，所述旋转基片架通过一齿轮机构旋转。与现有技术相比，本发明提供的立式镀膜机的旋转系统通过两个旋转机构，分别使自转磁棒和旋转基片架自转或旋转。通过设置七块靶材，人为将七块靶材分为两部分，每部分靶材的相邻靶材溅射后为渐进的颜色，自转磁棒旋转，再拆卸下对应的防护元件，可自由溅射不同渐变色系的基片。基片架的旋转，实现了不同列基片的高效对接溅射。 专利申请的撤回
双鼓镀膜机 CN201911263935.8 - 本发明提供了双鼓镀膜机，包括两个第一壳体和两个第二壳体，第一壳体内形成第一腔室，第二壳体内形成第二腔室，两个第一壳体的两个第一腔室和两个第二壳体的两个第二腔室呈直线连通，两个第一腔室位于所述直线的中部，第一壳体和第二壳体上设有多个垂直安装架和多个水平安装架，基片架安装在垂直安装架或水平安装架上，垂直安装架安装在第一壳体和第二壳体的顶面和底面，水平安装架安装在第一壳体和第二壳体的相对的两个侧面上。本发明垂直安装架组件和水平安装架组件的设置可使所述镀膜机适用不同镀膜需求的基片的安装，提高了所述镀膜机对基片架的适用性，所述镀膜机结构简单、适用范围广、运行成本低。 专利申请的撤回
磁控溅射镀膜离子源在线清洗装置及清洗方法 CN201911264596.5 - 本发明公开了磁控溅射镀膜离子源在线清洗装置，包括激光输出组件、激光安装件和清洁组件，所述激光安装件将激光输出组件安装于一移动组件上，所述清洁组件安装于激光输出组件上，该磁控溅射镀膜离子源在线清洗装置通过移动组件在一轨道上移动。与现有技术相比，本发明的优势在于进行清洗时，启动该磁控溅射镀膜离子源在线清洗装置工作，此时第一激光振镜先将外部连接的激光光源在马达的带动下高速旋转，达到改变激光光束的目的，再经过第二激光振镜的旋转达到改变光束扫描角度的目的，最后通过激光场镜照射后进行激光输出，待旋转阴极外表面被激光照射两遍后其包覆在外的导电膜将趋于脱落，向旋转阴极喷涂清水，待旋转阴极洗净后晾干。 专利申请的撤回
用于镀膜机的双鼓装配体 CN201911257297.9 - 本发明提供了用于镀膜机的双鼓装配体，包括装配架、两个鼓本体、多个导向体和多个刮板，两个鼓本体可转动的安装在装配架上，两个鼓本体的中心轴平行间隔设置，多个导向体沿着鼓本体横截面的周向均匀间隔布置，两个相邻的导向体之间的间隔设有一个刮板，刮板连接刮板油缸，刮板油缸连接并驱动刮板沿着鼓本体的径向移动。本发明通过刮板可定期自动清理鼓本体表面的粘连物，多个导向体沿着鼓本体横截面的周向均匀间隔分布，对刮落的废料进行导向，使废料滑落至底部统一收集，避免了二次污染，导向体同时对刮板起到了限位的作用。 专利申请的撤回
一种曲面屏磁控溅射组件 CN201911258181.7 2023-10-31 本发明提供了一种曲面屏磁控溅射组件，包括公自转伞具转架和多组阴极组件，多组阴极组件与公自转伞具转架不接触，多组阴极组件沿公自转伞具转架的周向分布，每组阴极组件包括两个阴极装置，每个阴极装置包括磁棒，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节，公自转伞具转架包括自转架和多组用于装载基片的公自转架，自转架绕其中心轴可自转的设置，公自转架可自转的安装在自转架上，自转架自转时带动多组公自转架绕所述中心轴公转。本发明基片架带动基片自转同时公转，每组阴极组件的两个磁棒的磁场方向可调节的设置，溅射沉积更均匀。 专利权的授权
渐变色U型镀膜生产方法 CN201911239116.X - 本发明公开了渐变色U型镀膜生产方法，所述渐变色U型镀膜生产方法应用于U型镀膜生产线，所述U型镀膜生产线包括两平行设置的传送流水线和一镀膜腔室，两传送流水线通过镀膜腔室相连，所述镀膜腔室内包括一基片架停靠站、靶材和旋转阴极，所述立式基片架位于基片架停靠站，所述靶材竖立于立式基片架和旋转阴极之间。形成半环形流水线，节约占地面积，整个镀膜生产线中基片传送采用智能控制，节约人力物力，提供生产效率，镀膜流水线中各腔室依据产品需求更换或增加，整条镀膜生产线适应多种镀膜工艺要求，使用寿命延长，节约资源。 专利申请的撤回
用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备 CN201911138349.0 - 本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备，包括基片架、旋转底板、基片架底座、固定座和旋转电机，固定座固定在所述镀膜生产线的箱体内，旋转电机安装在固定座上，基片架位于旋转底板上，旋转电机连接并驱动旋转底板和基片架转动。本发明旋转底板和基片架底座同步旋转，带动基片架同步转动，实现基片架翻面的同时旋转平稳；基片架上设有多个基片区，可放置多个基片，充分利用基片架的位置。 专利申请的撤回
用于镀膜室的屏蔽门 CN201911138286.9 - 本发明提供了用于镀膜室的屏蔽门，所述屏蔽门用于镀膜生产线，所述镀膜生产线包括多个依次连接的箱体，所述箱体内设有空腔，所述屏蔽门包括箱体上设有门结构，多个箱体通过门结构的打开实现多个箱体内的空腔的连通，以供待镀膜的基片在所述连通的空腔内运行，通过门结构的关闭实现各个箱体的关闭和独立。本发明多个箱体上的门结构形成所述镀膜生产线的屏蔽，使多个箱体彼此独立或连通，且各个箱体内的真空度沿着待镀膜的基片的运行方向先增大再减小，使箱体壁两侧的压差均匀，降低了对箱体壁材料的要求，提高了所述镀膜生产线运行的可靠性。 专利申请的撤回
镀膜生产线的真空系统 CN201911116054.3 - 本发明提供了镀膜生产线的真空系统，所述镀膜生产线包括多个依次连接的箱体，各箱体内为腔室，待镀膜的基片在各所述腔室内运行，待镀膜的基片在每个独立的腔室内完成相应工艺，各箱体之间设有门阀，以将各个箱体对应的腔室分隔开来，所述真空系统，包括至少一泵组、主抽气管道、至少一泵组管道和多组抽真空组件，每个箱体设有一组抽真空组件，各组抽真空组件并联连接后通过主抽气管道和泵组管道连接泵组。本发明所述真空系统均匀布置在各个箱体上，保证各个腔室均匀的被抽真空；各个腔室之间设有门阀，使各个腔室被分隔成独立的功能室；包括波纹管和支撑架，有效降低抽取真空时的震动和噪声；各部件充分利用镀膜生产线的高度差，布置紧凑。 专利申请的撤回