专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
一种用于镀膜机镀膜室的门阀结构 CN201911116185.1 - 本发明提供了一种用于镀膜机镀膜室的门阀结构，所述镀膜生产线包括多个依次连接的箱体，各箱体内为腔室，待镀膜的基片在各所述腔室内运行，每个箱体的腔室为一个独立的功能室，待镀膜的基片在每个独立的腔室内完成相应工艺，各箱体之间设有门阀结构，所述门阀结构包括两组传动组件、阀轴、两个连接套、多个连接座和阀体，两组传动组件分别通过两个连接套连接在阀轴的两端，阀轴和阀体通过连接座固定连接，两组传动组件连接并驱动阀轴转动，阀轴带动阀体同步转动。本发明的阀轴两端通过两个气缸驱动，阀轴受力均匀、运行平稳，使阀轴带动阀体打开或关闭平稳，所述门阀结构组成简单、运动传递可靠，主要通过机械结构完成，成本低。 专利申请的撤回
ARC镀膜生产线的传送系统 CN201911110614.4 - 本发明提供了ARC镀膜生产线的传送系统，ARC镀膜生产线包括多个依次连接的箱体，多个箱体依次连接形成U形通道，所述传送系统包括多组传送组件，每个箱体内布置一组传送组件，多组传送组件依次连接形成U形传送路径，每组传送组件包括传动架、电源、传动电机、传动带和传动组件，待镀膜的基片安装在基片架上，基片架架设在传动组件上，传动组件带动所述基片架沿着所述U形传送通道运行。本发明传送路径沿着U形传送通道布置，多个传送组件和传动电机沿着传送路径均匀布置，使传送带均匀受力、传送平稳，基片架同时架设在至少两个内传动轮上，且内传动轮为内凹圆周面，使基片架稳定的支撑在内传动轮上且传送平稳。 专利申请的撤回
用于ARC镀膜生产线的基片架 CN201911106235.8 - 本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片架，用于装载待镀膜的基片，所述基片架在镀膜生产线上运行，包括基片架本体、框架组件和盖板组件，框架组件连接基片架本体的各侧边，基片架本体上设有基片区，基片区包括彼此独立的第一基片区、第二基片区和第三基片区，盖板组件包括第一盖板、第二盖板和第三盖板，第一盖板、第二盖板和第三盖板分别可拆卸的盖合在第一基片区、第二基片区和第三基片区上。本发明所述基片架可装载多种和多个基片，基片架分为多个基片区域，每个基片区域对应配有相应盖板，所述盖板可拆卸的覆盖在对应的基片区域，以分区利用各个基片区域，且防止各基片区域受到污染，框架组件保护基片架本体且稳定承重。 专利申请的撤回
一种ARC镀膜生产线的基片架旋转装置 CN201911104878.9 - 本发明提供了一种ARC镀膜生产线的基片架旋转装置，包括旋转底座、传动底座、旋转框架、固定部、回转电机、两组传送机构和一组导向机构，固定部固定在相应腔室内，回转电机安装在固定部内，且回转电机的电机轴连接旋转底座的中心，旋转底座安装在固定部上，且旋转底座和固定部之间设有轴承，回转电机连接并驱动旋转底座旋转。本发明基片架上端受到两侧的磁导向的均匀的磁力，基片架上端稳定、无晃动，旋转结构稳定驱动基片架旋转，两者结合使基片架旋转时能稳定、无位移偏差，利于旋转掉头后的镀膜稳定性和均匀性。 专利申请的撤回
镀膜机离子源总装 CN201911085597.3 - 本发明提供了镀膜机离子源总装，包括壳体和安装在壳体上的离子源，壳体为长方体结构，壳体一面开口、具有容纳腔，离子源位于所述壳体的容纳腔内，离子源的上端和下端各设有一个安装柱，安装柱穿过壳体，离子源通过两个安装柱架设在壳体上，壳体侧面上设有安装翼，所述开口一端沿着开口一周设有密封台。本发明壳体和离子源装配成一个总装，可形成一个标准件或定制件，直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面，无需其它零散部件进行支撑和密封，安装和维修方便，壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置。 专利申请的撤回
用于镀膜机的离子源 CN201911085658.6 - 本发明提供了用于镀膜机的离子源，包括本体、限位柱和调节板，限位柱固定连接在本体的顶部，调节板一端设有安装孔，另一端开设有多个弧形孔，不位于本体顶部的中心，镀膜机的壳体的顶面设有通孔，限位柱穿过壳体顶面的通孔后再穿过调节板的安装孔。本发明的离子源本体和安装柱通过铰接杆铰接，离子源本体可根据安装需要转动，可根据限位杆的位置和移动判断离子源本体的位置和移动，在调节板的弧形孔中插入限位杆可限制本体的移动范围。 专利申请的撤回
一种ARC镀膜生产线及镀膜工艺 CN201911080840.2 - 本发明提供了一种ARC镀膜生产线，包括呈直线依次连接的旋转台、进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室组、后过渡室和旋转室，工艺室组包括至少一个工艺室，进出口室、缓冲室、前过渡室、工艺室和后过渡室均沿着所述直线方向对称分隔成两个腔室，形成连通的U形通道，基于上述生产线的ARC镀膜生产工艺，包括两个依次进行、运行方向相反的流程，无需对基片镀过渡层。本发明的同一工艺室腔室内布置多个旋转阴极进行连续镀膜，无需过渡层；工艺室数量可根据具体需求增加或减少而不影响其它功能室的工作；折线形生产线使基片架上端磁连接、下端内凹的传动轮接力传送，对基片的传动平稳可靠。 专利申请的驳回
一种DLC连续镀膜生产线及镀膜工艺 CN201911080926.5 - 本发明提供了一种DLC连续镀膜生产线，包括呈直线依次连接的进口室、进口缓冲室、进口过渡室、第一工艺室组、隔离室、第二工艺室组、出口过渡室、出口缓冲室和出口室，形成连通的直线通道，以及和所述直线通道平行间隔布置的回架组，所述第一工艺室组和第二工艺室组分别包括多个工艺室，所述回架组包括多个依次衔接的回架。基于上述生产线的DLC镀膜生产工艺，包括两个依次进行、运行方向相反的流程，基片在各个工艺室依次镀膜。本发明的同一生产线上设有不同阴极设备，可在同一生产线上进行多层、连续镀膜，设有回架，通过同一传送机构进行基片传送，实现装载、卸载基片，回架结构简单有效。 专利申请的驳回
一种卧式真空镀膜生产线用基片运输传动装置 CN201911081698.3 2022-05-31 本发明公开了一种卧式真空镀膜生产线用基片运输传动装置，所述运输传动装置包括载架、载盘和呈镜像对称的两平衡传动组件，所述平衡传动组件包括顺次连接的轴座、摆动轴和方形导杆，所述摆动轴的A端与轴座非固定连接，所述摆动轴的B端安装在方形导杆上，所述轴座通过摆动轴相对于方形导杆摆动，所述两平衡组件的轴座对称安装于载架两侧。本发明提供的卧式真空镀膜生产线用传动装置可减小基片架在运输途中的振动，使基片架持续处于水平状态，从而避免在运输过程中因左右不对称而造成“转向”，达到匀速前进的状态，可满足真空镀膜腔室内匀速无尘运输的要求。 专利权的授权
镀膜生产线控制方法 CN201911082246.7 2022-10-18 本发明公开了一种镀膜生产线控制方法，方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，上述方法可以实时检测基片的位置，并根据基片的位置对整个镀膜生产线各个腔室的真空范围进行调节，此外还可以对基片的传动速度进行调节，从而可以对整个生产线进行控制，进而保证了镀膜的准确性。形成一环形流水线，节约占地面积，整个镀膜生产线中基片传送采用智能控制，节约人力物力，提供生产效率，镀膜流水线中各腔室依据产品需求更换或增加，整条镀膜生产线适应多种镀膜工艺要求，使用寿命延长，节约资源。 专利权的授权