专利标题 公开号/公告号 公开日期 摘要 专利状态
PECVD设备的加热系统、加热控制方法及PECVD设备 CN202010885351.0 2022-10-18 本发明公开了一种PECVD设备的加热系统、加热控制方法及PECVD设备。加热系统包括炉体和半导体加热单元，炉体包括炉壳、炉体保温层、炉丝、反应管和媒介管道，半导体加热单元的热端设有热媒输出管和热媒输入管且冷端设有冷媒输出管和冷媒输入管，媒介管道设于炉丝与反应管之间，热媒输出管和热媒输入管分别与媒介管道的两端连接，冷媒输出管和冷媒输入管分别与媒介管道的两端连接。方法包括一次镀膜、主动降温、二次镀膜，利用半导体冷端冷媒主动对反应管吸热降温。设备包括预热箱和上述加热系统，预热箱内设有第一热媒管道，其两端分别与热媒输出管和热媒输入管连接。本发明采用半导体一个热源实现多种加热循环回路和多种冷却循环回路。 专利权的授权
一种等离子体放电异常的处理方法 CN202010861770.0 2022-08-12 本发明公开了一种等离子体放电异常的处理方法，其步骤包括：步骤S1：淀积工艺开始时，检测等离子体放电过程中输出电流Io是否超过最大电流设定值Imax，当Io＞Imax时，判断放电过程中有Imax电弧发生；若Io＜Imax，则继续比较Io是否超过电流设定值Ix，其中Ix＜Imax；步骤S2：当输出电流Io＞Ix时，同时需比较输出电压Uo是否超过电压设定值Ux；当Io＞Ix且Uo＜Ux时，判断放电过程中有U×I电弧发生；步骤S3：比较输出电压波动ΔU和设定值dU，当ΔU大于dU时，判断放电过程中有dU电弧发生。本发明具有原理简单、操作简便、自动化程度高、检测精度高、处理效果好等优点。 专利权的授权
一种薄片材料高速连续上料系统 CN202010716984.9 2022-06-14 本发明公开了一种薄片材料高速连续上料系统，包括上料机械手、主储料部件和副储料部件，上料机械手包括固定架、升降机构、旋转机构、抓手安装平台和四个吸盘抓手，升降机构设于固定架上，旋转机构设于升降机构上，抓手安装平台设于旋转机构上，四个吸盘抓手均匀布置在抓手安装平台上，主储料部件包括料盒和薄片材料顶升机构，薄片材料顶升机构用于驱动料盒内的薄片材料升降，副储料部件包括料盒和薄片材料顶升机构，四个吸盘抓手中有两个呈对角的吸盘抓手分别设于主储料部件和副储料部件的料盒的上方，其余两个吸盘抓手中的一个吸盘抓手位于材料放置平台的上方。本发明具有采用四个吸盘抓手和两个储料部件，具有上料连续、上料快的优点。 专利权的授权
一种电池片测试分选设备 CN202010693127.1 - 本发明公开了一种电池片测试分选设备，包括自动上料系统、托盘推出机构、上料机器人、视觉拍照系统、转台、测试台、下料机器人、传输机构、效率分档机械手和分档载片盘，自动上料系统设有多层电池片托盘和升降机构，托盘推出机构设于自动上料系统的最底层电池片托盘的下方，测试台设于转台的一侧，转台具有放电池片的放片位，视觉拍照系统用于对进入测试台测试前的电池片进行拍照，效率分档机械手用于将传输机构上转换效率不同的电池片分别放至不同的分档载片盘内。本发明全自动从托盘取出电池片，可对电池片进行IV曲线电性能参数进行测试，根据不同转换效率来对电池片分档存放，实现电池片的测试分。   专利申请的驳回
一种自动裂片装置 CN202010693104.0 2023-09-05 本发明公开了一种自动裂片装置，包括固定基座、旋转机构、取放片机构和裂片机构，旋转机构设在固定基座上，取放片机构包括连接座、两块吸附板和真空吸盘，两块吸附板并排安装在连接座上，两个吸附板之间具有裂片间隙，各吸附板上设有通孔，真空吸盘位于通孔内，连接座与旋转机构连接，并悬空在旋转机构的一侧，所述裂片机构包括惰性气体管道和两个裂片座，两个裂片座设于裂片间隙的两端，并各自固定在连接座上，惰性气体管道安装在两个裂片座上，位于裂片间隙内，惰性气体管道前端采用堵头堵住，惰性气体管道朝下的面上设有成排的多个裂片出气孔。本发明靠管道释放惰性气体使电池片裂开，避免机械等其它方式裂片产生的崩边、崩角等现象。 专利权的授权
一种平板式PECVD设备用多段式电极板辉光放电装置 CN202010651363.7 - 本发明公开了一种平板式PECVD设备用的多段式电极板辉光放电装置，包括反应腔、腔盖、多个送气机构、上电极板和下电极板，所述腔盖设置在所述反应腔的上方，所述上电极板和下电极板设置在所述反应腔内，所述上电极板包括多个电极单元，所述多个送气机构分别与多个电极单元连通。本发明具有镀膜均匀性高、制造成本更低、能提升电池转换效率等优点。 专利申请的驳回
一种插片机分区域控制系统及控制方法 CN202010598268.5 2021-10-22 本发明公开了一种插片机分区域控制系统，包括花篮流转工位控制单元、硅片流转工位控制单元、机器人工位控制单元和横移工位控制单元；其中一个工位的控制单元为主控制单元，主控制单元的供电电源的输入端用于连接外部电源，主控制单元的供电电源的输出端则分别与其它各工位控制单元的电源相连；各工位控制单元之间相互通讯连接以形成环网。本发明还公开了一种控制方法，包括：在初始状态下，一键启动各个工位控制单元；在某个工位控制单元出现故障时，故障的工位控制单元跳出自动，进入故障状态，其他工位控制单元则不受影响；故障处理完成后，重新启动此工位控制单元，进入自动模式。本发明具有分区独立控制、测试以及运行效率高等优点。 专利权的授权
一种基于视觉的石墨舟倒片检测方法、装置及系统 CN202010598314.1 2023-08-08 本发明公开了一种基于视觉的石墨舟倒片检测方法、装置及系统，属于管式PECVD设备技术领域，用于解决目前倒片检测结构复杂、检测精度低的技术问题，此方法包括步骤：获取在石墨舟的不同位置采集的石墨舟图像；2）对各石墨舟图像进行图像处理，得到石墨舟图像中硅片边缘与较近的石墨舟槽边缘距离的较大距离值；3）基于较大距离值判断对应的石墨舟槽内的硅片是否存在倒片。本发明具有检测精度高、检测可靠性高等优点。 专利权的授权
平板式PECVD设备的微波天线组件及平板式PECVD设备 CN202010565829.1 - 本发明公开了一种平板式PECVD设备的微波天线组件，包括微波天线及微波隔离石英管，所述微波天线设于平板式PECVD设备的真空腔室的外侧，所述微波隔离石英管设于所述真空腔室内，微波天线组件还包括石英管旋转驱动件，所述石英管旋转驱动件与所述微波隔离石英管相连。本发明还公开了一种平板式PECVD设备，包括真空腔室，所述真空腔室内设有工件载板及载板输送部件，还包括前述的平板式PECVD设备的微波天线组件。本发明具备有利于减缓薄膜的附着速率，延长石英管更换周期，提高生产效率等优点。   专利申请的撤回
用于生长氧化铝和氮化硅薄膜的平板式ALD和PECVD组合设备 CN202010565078.3 - 本发明公开了一种用于生长氧化铝和氮化硅薄膜的平板式ALD和PECVD组合设备，包括硅片传输机构，硅片传输机构沿传输方向依次设有上料腔、用于在硅片上生长氧化铝薄膜的原子层沉积工艺腔、用于在硅片上生长氮化硅薄膜的化学气相沉积工艺腔、以及下料腔，所述原子层沉积工艺腔与所述化学气相沉积工艺腔之间设有过渡腔，相邻腔室之间均设有真空隔离阀。本发明具有结构紧凑、生产效率高、膜层质量好等优点。   专利申请的驳回